ICPMS
Rozcestník
Další informace
WebinářeO násKontaktujte násPodmínky užití
LabRulez s.r.o. Všechna práva vyhrazena. Obsah dostupný pod licencí CC BY-SA 4.0 Uveďte původ-Zachovejte licenci.
Language English

    1. Databáze

    1. Zaměření

    1. Instrumentace

    1. Výrobce

    1. Autor

    1. Typ Publikace

    1. Rok vydání

    Analysis of trace metallic impurities in hydrocarbon fuels by ICP-MS

    Aplikace
    | 2013 | Agilent Technologies
    ICP/MS
    Instrumentace
    ICP/MS
    Výrobce
    Agilent Technologies
    Zaměření
    Průmysl a chemie

    Ultratrace Analysis of Solar (Photovoltaic) Grade Bulk Silicon by ICP-MS

    Aplikace
    | 2008 | Agilent Technologies
    ICP/MS
    Instrumentace
    ICP/MS
    Výrobce
    Agilent Technologies
    Zaměření
    Polovodiče

    Characterization of Trace Impurities in Silicon Wafers by High Sensitivity Reaction Cell ICP-MS

    Aplikace
    | 2003 | Agilent Technologies
    ICP/MS
    Instrumentace
    ICP/MS
    Výrobce
    Agilent Technologies
    Zaměření
    Polovodiče

    Determination of challenging elements in ultrapure semiconductor grade sulfuric acid by Triple Quadrupole ICP-MS

    Aplikace
    | 2015 | Agilent Technologies
    ICP/MS, ICP/MS/MS
    Instrumentace
    ICP/MS, ICP/MS/MS
    Výrobce
    Agilent Technologies
    Zaměření
    Polovodiče

    Trace Elemental Analysis of Trichlorosilane by Agilent ICP-MS

    Aplikace
    | 2021 | Agilent Technologies
    ICP/MS
    Instrumentace
    ICP/MS
    Výrobce
    Agilent Technologies
    Zaměření
    Polovodiče

    Direct Analysis of Trace Metallic Impurities in High Purity Hydrochloric Acid by 7700s/7900 ICP-MS

    Aplikace
    | 2017 | Agilent Technologies
    ICP/MS
    Instrumentace
    ICP/MS
    Výrobce
    Agilent Technologies
    Zaměření
    Průmysl a chemie

    Improvement of ICP-MS detectability of phosphorus and titanium in high purity silicon samples using the Agilent 8800 Triple Quadrupole ICP-MS

    Aplikace
    | 2013 | Agilent Technologies
    ICP/MS, ICP/MS/MS
    Instrumentace
    ICP/MS, ICP/MS/MS
    Výrobce
    Agilent Technologies
    Zaměření
    Polovodiče

    Basic Performance of the Agilent 7700s ICP-MS for the Analysis of Semiconductor Samples

    Technické články
    | 2010 | Agilent Technologies
    ICP/MS
    Instrumentace
    ICP/MS
    Výrobce
    Agilent Technologies
    Zaměření
    Polovodiče

    Direct Measurement of Metallic Impurities in 20% Ammonium Hydroxide by 7700s/7900 ICP-MS

    Aplikace
    | 2017 | Agilent Technologies
    ICP/MS
    Instrumentace
    ICP/MS
    Výrobce
    Agilent Technologies
    Zaměření
    Polovodiče

    WCPS: Efficient Removal of Polyatomic Ions by ICP-MS Equipped with Novel Reaction Cell: Examples of Highly Purified Chemicals Used for Semiconductor

    Postery
    | 2012 | Agilent Technologies
    ICP/MS, ICP/MS/MS
    Instrumentace
    ICP/MS, ICP/MS/MS
    Výrobce
    Agilent Technologies
    Zaměření
    Polovodiče
     

    Mohlo by Vás zajímat

    ‌

    He kolizní mód s technologií kolizně reakční cely Agilent ORS⁴

    Út, 9.4.2024
    Altium International
    ‌

    Bojí se Váš vzorek cestovat? Nabízíme bezpečné řešení pro jeho přepravu.

    Po, 8.4.2024
    ALS Czech Republic
    ‌

    Mezníky AI: Od Turingova stroje k ChatGPT

    Čt, 18.4.2024
    Univerzita Karlova
    ‌
    Další projekty
    Sledujte nás
    Další informace
    WebinářeO násKontaktujte násPodmínky užití
    LabRulez s.r.o. Všechna práva vyhrazena. Obsah dostupný pod licencí CC BY-SA 4.0 Uveďte původ-Zachovejte licenci.