Rozcestník
Další informace
WebinářeO násKontaktujte násPodmínky užití
LabRulez s.r.o. Všechna práva vyhrazena. Obsah dostupný pod licencí CC BY-SA 4.0 Uveďte původ-Zachovejte licenci.
Aplikace z oblasti Polovodiče se zaměřením na ICP/MS/MS | LabRulez ICPMS
Ultrapure Process Chemicals Analysis by ICP-QQQ with Hot Plasma Conditions
Aplikace
| 2021 | Agilent Technologies
ICP/MS, ICP/MS/MS
Instrumentace
ICP/MS, ICP/MS/MS
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Polovodiče
Analysis of Ultratrace Impurities in High Purity Copper using the Agilent 8900 ICP-QQQ
Aplikace
| 2018 | Agilent Technologies
ICP/MS, ICP/MS/MS
Instrumentace
ICP/MS, ICP/MS/MS
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Průmysl a chemie, Polovodiče
Improvement of ICP-MS detectability of phosphorus and titanium in high purity silicon samples using the Agilent 8800 Triple Quadrupole ICP-MS
Aplikace
| 2013 | Agilent Technologies
ICP/MS, ICP/MS/MS
Instrumentace
ICP/MS, ICP/MS/MS
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Polovodiče
Agilent Atomic Spectroscopy Solutions for the Semiconductor Industry
Příručky
| 2020 | Agilent Technologies
ICP/MS, ICP/OES, AAS, ICP/MS/MS, MP/ICP-AES
Instrumentace
ICP/MS, ICP/OES, AAS, ICP/MS/MS, MP/ICP-AES
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Polovodiče
WCPS: Efficient Removal of Polyatomic Ions by ICP-MS Equipped with Novel Reaction Cell: Examples of Highly Purified Chemicals Used for Semiconductor
Postery
| 2012 | Agilent Technologies
ICP/MS, ICP/MS/MS
Instrumentace
ICP/MS, ICP/MS/MS
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Polovodiče
WCPS: Determination of Ultra Trace Elements in High Purity Reagents by Automatic Standard Addition Methods Using prepFAST S - ICP-MS/MS
Postery
| 2018 | Agilent Technologies
Příprava vzorků, ICP/MS, ICP/MS/MS
Instrumentace
Příprava vzorků, ICP/MS, ICP/MS/MS
Výrobce
Agilent Technologies, Elemental Scientific
Zaměření
Průmysl a chemie, Polovodiče
Determination of challenging elements in ultrapure semiconductor grade sulfuric acid by Triple Quadrupole ICP-MS
Aplikace
| 2015 | Agilent Technologies
ICP/MS, ICP/MS/MS
Instrumentace
ICP/MS, ICP/MS/MS
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Polovodiče
Direct Analysis of Trace Metal Impurities in High Purity Nitric Acid Using ICP-QQQ
Aplikace
| 2018 | Agilent Technologies
ICP/MS, ICP/MS/MS
Instrumentace
ICP/MS, ICP/MS/MS
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Polovodiče
Další informace
WebinářeO násKontaktujte násPodmínky užití
LabRulez s.r.o. Všechna práva vyhrazena. Obsah dostupný pod licencí CC BY-SA 4.0 Uveďte původ-Zachovejte licenci.