Characterization of Surface Metal Contamination on Silicon Wafers Using Surface Metal Extraction Inductively Coupled Plasma Mass Spectrometry (SME- ICP-MS)
Aplikace
| 2001 | Agilent Technologies
ICP/MS
Instrumentace
ICP/MS
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Polovodiče
Damage-free failure/defect analysis in electronics and semiconductor industries using micro-ATR FTIR imaging
Aplikace
| 2014 | Agilent Technologies
FTIR Spektroskopie
Instrumentace
FTIR Spektroskopie
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Materiálová analýza, Polovodiče
Analysis of Metallic Impurities in Specialty Semiconductor Gases Using Gas Exchange Device (GED)-ICP-MS
Aplikace
| 2022 | Agilent Technologies
ICP/MS, ICP/MS/MS
Instrumentace
ICP/MS, ICP/MS/MS
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Polovodiče
Před
1
Další
Mohlo by Vás zajímat
Altium: Akční nabídka květen - srpen 2024
Út, 14.5.2024
Altium International
Konfigurátor roztoků ANALYTIKA – tvorba roztoku na míru