Analysis of Ultratrace Impurities in High Silicon Matrix Samples by ICP-QQQ
Aplikace
| 2021 | Agilent Technologies
ICP/MS, ICP/MS/MS
Instrumentace
ICP/MS, ICP/MS/MS
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Polovodiče
Determination of Trace Impurities in Electronic Grade Arsine by GC-ICP-QQQ
Aplikace
| 2020 | Agilent Technologies
GC, ICP/MS, Speciační analýza, ICP/MS/MS
Instrumentace
GC, ICP/MS, Speciační analýza, ICP/MS/MS
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Polovodiče
The deep ultraviolet spectroscopic properties of a next-generation photoresist
Aplikace
| 2011 | Agilent Technologies
UV–VIS Spektrofotometrie
Instrumentace
UV–VIS Spektrofotometrie
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Materiálová analýza, Polovodiče
Determination of Trace Metal Impurities in Semiconductor Grade Phosphoric Acid by High Sensitivity Reaction Cell ICP-MS
Aplikace
| 2003 | Agilent Technologies
ICP/MS
Instrumentace
ICP/MS
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Polovodiče
Characterization of Surface Metal Contamination on Silicon Wafers Using Surface Metal Extraction Inductively Coupled Plasma Mass Spectrometry (SME- ICP-MS)
Aplikace
| 2001 | Agilent Technologies
ICP/MS
Instrumentace
ICP/MS
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Polovodiče
Ultratrace measurement of calcium in ultrapure water using the Agilent 8800 Triple Quadrupole ICP-MS
Aplikace
| 2012 | Agilent Technologies
ICP/MS, ICP/MS/MS
Instrumentace
ICP/MS, ICP/MS/MS
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Polovodiče
Analysis of 50 nm Silica Nanoparticles in Semiconductor Process Chemicals by spICP-MS/MS
Aplikace
| 2023 | Agilent Technologies
ICP/MS, ICP/MS/MS
Instrumentace
ICP/MS, ICP/MS/MS
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Polovodiče
Evaluation of TOC of Sulfuric Acid using Wet Oxidation TOC Analyzer
Aplikace
| 2024 | Shimadzu
TOC
Instrumentace
TOC
Výrobce
Shimadzu
Zaměření
Průmysl a chemie, Polovodiče
Determination of trace elements in ultrapure semiconductor grade sulfuric acid using the Agilent 8900 ICP-QQQ in MS/MS mode
Aplikace
| 2018 | Agilent Technologies
ICP/MS, ICP/MS/MS
Instrumentace
ICP/MS, ICP/MS/MS
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Polovodiče
Analysis of Trace Metal Impurities in High Purity Hydrochloric Acid Using ICP-QQQ