Rozcestník
Novinky
Novinky
Nejbližší akce
Akademie - již brzy
Knihovna
ICPMS
GCMS
LCMS
Webináře
Webináře
Produkty
Přístroje a služby
Bazar
Společnosti
Komerční
Nekomerční
Mediální
Kariéra
Nabídky práce
Další informace
Webináře
O nás
Kontaktujte nás
Podmínky užití
LabRulez s.r.o. Všechna práva vyhrazena. Obsah dostupný pod licencí CC BY-SA 4.0 Uveďte původ-Zachovejte licenci.
Novinky
Knihovna
Webináře
Produkty
Společnosti
Kariéra
Novinky
Nejbližší akce
Akademie - již brzy
ICPMS
GCMS
LCMS
Webináře
Přístroje a služby
Bazar
Komerční
Nekomerční
Mediální
Nabídky práce
Databáze
ICPMS
GCMS
LCMS
Zaměření
Materiálová analýza
(1)
Polovodiče
Polovodiče
Instrumentace
FTIR Spektroskopie
(1)
ICP/MS
(6)
ICP/MS/MS
(5)
Laserová ablace
(1)
Výrobce
Agilent Technologies
(7)
Autor
Agilent Technologies
(7)
Typ Publikace
Aplikace
Ostatní
(3)
Příručky
(3)
Aplikace
Rok vydání
Aplikace z oblasti Polovodiče | LabRulez ICPMS
Analysis of Metallic Impurities in Specialty Semiconductor Gases Using Gas Exchange Device (GED)-ICP-MS
Aplikace
| 2022 | Agilent Technologies
ICP/MS, ICP/MS/MS
Instrumentace
ICP/MS, ICP/MS/MS
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Polovodiče
Elemental and Particle Analysis of N-Methyl-2-Pyrrolidone (NMP) by ICP-MS/MS
Aplikace
| 2022 | Agilent Technologies
ICP/MS, ICP/MS/MS
Instrumentace
ICP/MS, ICP/MS/MS
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Polovodiče
Damage-free failure/defect analysis in electronics and semiconductor industries using micro-ATR FTIR imaging
Aplikace
| 2014 | Agilent Technologies
FTIR Spektroskopie
Instrumentace
FTIR Spektroskopie
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Materiálová analýza, Polovodiče
Ultrapure Process Chemicals Analysis by ICP-QQQ with Hot Plasma Conditions
Aplikace
| 2021 | Agilent Technologies
ICP/MS, ICP/MS/MS
Instrumentace
ICP/MS, ICP/MS/MS
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Polovodiče
Direct Analysis of Metallic Impurities in SiC and GaN Wafers by LA-GED-MSAG-ICP-MS/MS
Aplikace
| 2023 | Agilent Technologies
ICP/MS, ICP/MS/MS, Laserová ablace
Instrumentace
ICP/MS, ICP/MS/MS, Laserová ablace
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Polovodiče
Determination of Trace Metal Impurities in Semiconductor Grade Phosphoric Acid by High Sensitivity Reaction Cell ICP-MS
Aplikace
| 2003 | Agilent Technologies
ICP/MS
Instrumentace
ICP/MS
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Polovodiče
Determination of Ultratrace Impurities in Semiconductor Photoresist Using ICP-MS/MS
Aplikace
| 2023 | Agilent Technologies
ICP/MS, ICP/MS/MS
Instrumentace
ICP/MS, ICP/MS/MS
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Polovodiče
Před
1
Další
Mohlo by Vás zajímat
Nový systém čištění vody ELGA Purelab Flex
St, 8.5.2024
Česká voda – MEMSEP, a.s.
FACT …to funguje (Agilent ICP-OES)
Út, 7.5.2024
Altium International
LABOREXPO & PROCESEXPO 2024 (doprovodný odborný program)
Čt, 16.5.2024
LabRulez
Další projekty
Sledujte nás
Další informace
Webináře
O nás
Kontaktujte nás
Podmínky užití
LabRulez s.r.o. Všechna práva vyhrazena. Obsah dostupný pod licencí CC BY-SA 4.0 Uveďte původ-Zachovejte licenci.