ICPMS
Další informace
WebinářeO násKontaktujte násPodmínky užití
LabRulez s.r.o. Všechna práva vyhrazena. Obsah dostupný pod licencí CC BY-SA 4.0 Uveďte původ-Zachovejte licenci.
    1. Databáze

    1. Zaměření

    1. Instrumentace

    1. Výrobce

    1. Autor

    1. Typ Publikace

    1. Rok vydání

    Aplikace z oblasti Polovodiče | LabRulez ICPMS

    Ultrapure Process Chemicals Analysis by ICP-QQQ with Hot Plasma Conditions

    Aplikace
    | 2021 | Agilent Technologies
    ICP/MS, ICP/MS/MS
    Instrumentace
    ICP/MS, ICP/MS/MS
    Výrobce
    Agilent Technologies
    Zaměření
    Polovodiče

    Gas chromatographic separation of metal carbonyls in carbon monoxide with detection using the Agilent 8800 ICP-QQQ

    Aplikace
    | 2016 | Agilent Technologies
    GC, ICP/MS, Speciační analýza, ICP/MS/MS
    Instrumentace
    GC, ICP/MS, Speciační analýza, ICP/MS/MS
    Výrobce
    Agilent Technologies
    Zaměření
    Průmysl a chemie, Polovodiče

    Technical Overview and Performance Capability of the Agilent 7900s ICP-MS for Semiconductor Applications

    Technické články
    | 2020 | Agilent Technologies
    ICP/MS
    Instrumentace
    ICP/MS
    Výrobce
    Agilent Technologies
    Zaměření
    Polovodiče

    Ultratrace measurement of calcium in ultrapure water using the Agilent 8800 Triple Quadrupole ICP-MS

    Aplikace
    | 2012 | Agilent Technologies
    ICP/MS, ICP/MS/MS
    Instrumentace
    ICP/MS, ICP/MS/MS
    Výrobce
    Agilent Technologies
    Zaměření
    Polovodiče

    Quantitative analysis of high purity metals using laser ablation coupled to an Agilent 7900 ICP-MS

    Aplikace
    | 2015 | Agilent Technologies
    ICP/MS, Laserová ablace
    Instrumentace
    ICP/MS, Laserová ablace
    Výrobce
    Agilent Technologies
    Zaměření
    Průmysl a chemie, Polovodiče

    Determination of Ultratrace Impurities in Semiconductor Photoresist Using ICP-MS/MS

    Aplikace
    | 2023 | Agilent Technologies
    ICP/MS, ICP/MS/MS
    Instrumentace
    ICP/MS, ICP/MS/MS
    Výrobce
    Agilent Technologies
    Zaměření
    Polovodiče

    Characterization of Trace Impurities in Silicon Wafers by High Sensitivity Reaction Cell ICP-MS

    Aplikace
    | 2003 | Agilent Technologies
    ICP/MS
    Instrumentace
    ICP/MS
    Výrobce
    Agilent Technologies
    Zaměření
    Polovodiče

    Characterization of Surface Metal Contamination on Silicon Wafers Using Surface Metal Extraction Inductively Coupled Plasma Mass Spectrometry (SME- ICP-MS)

    Aplikace
    | 2001 | Agilent Technologies
    ICP/MS
    Instrumentace
    ICP/MS
    Výrobce
    Agilent Technologies
    Zaměření
    Polovodiče

    WCPS: Efficient Removal of Polyatomic Ions by ICP-MS Equipped with Novel Reaction Cell: Examples of Highly Purified Chemicals Used for Semiconductor

    Postery
    | 2012 | Agilent Technologies
    ICP/MS, ICP/MS/MS
    Instrumentace
    ICP/MS, ICP/MS/MS
    Výrobce
    Agilent Technologies
    Zaměření
    Polovodiče

    Automated Analysis of Ultratrace Elemental Impurities in Isopropyl Alcohol

    Aplikace
    | 2022 | Agilent Technologies
    ICP/MS, ICP/MS/MS
    Instrumentace
    ICP/MS, ICP/MS/MS
    Výrobce
    Agilent Technologies
    Zaměření
    Polovodiče
     

    Mohlo by Vás zajímat


    Představení nového ICP‑MS 7900: jedinečná technologie a výkon

    Út, 28.5.2024
    Altium International

    Najděte svou vysněnou práci v analytické chemii s LabRulez KARIÉRA!

    Ne, 26.5.2024
    LabRulez

    LABOREXPO & PROCESEXPO 2024 (doprovodný odborný program)

    Čt, 16.5.2024
    LabRulez
    Další projekty
    Sledujte nás
    Další informace
    WebinářeO násKontaktujte násPodmínky užití
    LabRulez s.r.o. Všechna práva vyhrazena. Obsah dostupný pod licencí CC BY-SA 4.0 Uveďte původ-Zachovejte licenci.