ICPMS
Rozcestník
Další informace
WebinářeO násKontaktujte násPodmínky užití
LabRulez s.r.o. Všechna práva vyhrazena. Obsah dostupný pod licencí CC BY-SA 4.0 Uveďte původ-Zachovejte licenci.
Language English

    1. Databáze

    1. Zaměření

    1. Instrumentace

    1. Výrobce

    1. Autor

    1. Typ Publikace

    1. Rok vydání

    Aplikace z oblasti Polovodiče | LabRulez ICPMS

    Agilent ICP-MS Journal (April 2018. Issue 72)

    Ostatní
    | 2018 | Agilent Technologies
    ICP/MS, ICP/MS/MS
    Instrumentace
    ICP/MS, ICP/MS/MS
    Výrobce
    Agilent Technologies
    Zaměření
    Potraviny a zemědělství, Polovodiče

    Analysis of 50 nm Silica Nanoparticles in Semiconductor Process Chemicals by spICP-MS/MS

    Aplikace
    | 2023 | Agilent Technologies
    ICP/MS, ICP/MS/MS
    Instrumentace
    ICP/MS, ICP/MS/MS
    Výrobce
    Agilent Technologies
    Zaměření
    Polovodiče

    Direct Analysis of Trace Metal Impurities in High Purity Nitric Acid Using ICP-QQQ

    Aplikace
    | 2018 | Agilent Technologies
    ICP/MS, ICP/MS/MS
    Instrumentace
    ICP/MS, ICP/MS/MS
    Výrobce
    Agilent Technologies
    Zaměření
    Polovodiče

    Agilent Atomic Spectroscopy Solutions for the Semiconductor Industry

    Příručky
    | 2020 | Agilent Technologies
    ICP/MS, ICP/OES, AAS, ICP/MS/MS, MP/ICP-AES
    Instrumentace
    ICP/MS, ICP/OES, AAS, ICP/MS/MS, MP/ICP-AES
    Výrobce
    Agilent Technologies
    Zaměření
    Polovodiče

    Automated Surface Analysis of Metal Contaminants in Silicon Wafers by Online VPD-ICP-MS/MS

    Aplikace
    | 2023 | Agilent Technologies
    ICP/MS, ICP/MS/MS
    Instrumentace
    ICP/MS, ICP/MS/MS
    Výrobce
    Agilent Technologies
    Zaměření
    Polovodiče

    Ultrapure Process Chemicals Analysis by ICP-QQQ with Hot Plasma Conditions

    Aplikace
    | 2021 | Agilent Technologies
    ICP/MS, ICP/MS/MS
    Instrumentace
    ICP/MS, ICP/MS/MS
    Výrobce
    Agilent Technologies
    Zaměření
    Polovodiče

    Determination of Ultratrace Impurities in Semiconductor Photoresist Using ICP-MS/MS

    Aplikace
    | 2023 | Agilent Technologies
    ICP/MS, ICP/MS/MS
    Instrumentace
    ICP/MS, ICP/MS/MS
    Výrobce
    Agilent Technologies
    Zaměření
    Polovodiče

    WCPS: The Analysis and Stability of High Purity TetraMethylAm m onium Hyrdoxide (TMAH) with the Agilent 8900 QQQ-ICPMS

    Postery
    | 2018 | Agilent Technologies
    ICP/MS, ICP/MS/MS
    Instrumentace
    ICP/MS, ICP/MS/MS
    Výrobce
    Agilent Technologies
    Zaměření
    Polovodiče

    Agilent ICP-MS Journal (April 2020, Issue 80)

    Ostatní
    | 2020 | Agilent Technologies
    Software, ICP/MS, ICP/MS/MS
    Instrumentace
    Software, ICP/MS, ICP/MS/MS
    Výrobce
    Agilent Technologies
    Zaměření
    Polovodiče

    Online monitoring of sulfuric acid and hydrogen peroxide using Raman spectroscopy

    Aplikace
    | 2023 | Metrohm
    RAMAN Spektrometrie
    Instrumentace
    RAMAN Spektrometrie
    Výrobce
    Metrohm
    Zaměření
    Polovodiče
     

    Mohlo by Vás zajímat

    ‌

    Altium: Akční nabídka květen - srpen 2024

    Út, 14.5.2024
    Altium International
    ‌

    Konfigurátor roztoků ANALYTIKA – tvorba roztoku na míru

    Po, 13.5.2024
    ANALYTIKA
    ‌

    Pozvánka na Laborexpo - stánek SHIMADZU

    Ne, 12.5.2024
    SHIMADZU Handels GmbH - organizační složka
    ‌
    Další projekty
    Sledujte nás
    Další informace
    WebinářeO násKontaktujte násPodmínky užití
    LabRulez s.r.o. Všechna práva vyhrazena. Obsah dostupný pod licencí CC BY-SA 4.0 Uveďte původ-Zachovejte licenci.