ICPMS
Další informace
WebinářeO násKontaktujte násPodmínky užití
LabRulez s.r.o. Všechna práva vyhrazena. Obsah dostupný pod licencí CC BY-SA 4.0 Uveďte původ-Zachovejte licenci.
    1. Databáze

    1. Zaměření

    1. Instrumentace

    1. Výrobce

    1. Autor

    1. Typ Publikace

    1. Rok vydání

    Aplikace z oblasti Polovodiče | LabRulez ICPMS

    Coated Wafer Mapping Using UV-Vis Spectral Reflection and Transmission Measurements

    Aplikace
    | 2020 | Agilent Technologies
    NIR Spektroskopie, UV–VIS Spektrofotometrie
    Instrumentace
    NIR Spektroskopie, UV–VIS Spektrofotometrie
    Výrobce
    Agilent Technologies
    Zaměření
    Materiálová analýza, Polovodiče

    WCPS: Accurate determination of Eu, and Sm in ultra-pure barium carbonate materials by ICP-QQQ

    Postery
    | 2017 | Agilent Technologies
    ICP/MS, ICP/MS/MS
    Instrumentace
    ICP/MS, ICP/MS/MS
    Výrobce
    Agilent Technologies
    Zaměření
    Materiálová analýza, Polovodiče

    Evaluation of TOC of Sulfuric Acid using Wet Oxidation TOC Analyzer

    Aplikace
    | 2024 | Shimadzu
    TOC
    Instrumentace
    TOC
    Výrobce
    Shimadzu
    Zaměření
    Průmysl a chemie, Polovodiče

    Automated Surface Analysis of Metal Contaminants in Silicon Wafers by Online VPD-ICP-MS/MS

    Aplikace
    | 2023 | Agilent Technologies
    ICP/MS, ICP/MS/MS
    Instrumentace
    ICP/MS, ICP/MS/MS
    Výrobce
    Agilent Technologies
    Zaměření
    Polovodiče

    Analysis of Electroceramics by Laser Ablation ICP-MS

    Aplikace
    | 2004 | Agilent Technologies
    ICP/MS, Laserová ablace
    Instrumentace
    ICP/MS, Laserová ablace
    Výrobce
    Agilent Technologies
    Zaměření
    Polovodiče

    WCPS: AGILENT 8800 TRIPLE QUADRUPOLE ICP-MS WINTER PLASMA CONFERENCE 2012 POSTERS

    Postery
    | 2012 | Agilent Technologies
    ICP/MS, ICP/MS/MS
    Instrumentace
    ICP/MS, ICP/MS/MS
    Výrobce
    Agilent Technologies
    Zaměření
    Životní prostředí, Polovodiče

    Direct Analysis of Metallic Impurities in SiC and GaN Wafers by LA-GED-MSAG-ICP-MS/MS

    Aplikace
    | 2023 | Agilent Technologies
    ICP/MS, ICP/MS/MS, Laserová ablace
    Instrumentace
    ICP/MS, ICP/MS/MS, Laserová ablace
    Výrobce
    Agilent Technologies
    Zaměření
    Polovodiče

    Characterization of Iron Nanoparticles in Hydrocarbon Matrices by Single Particle (sp)ICP-MS

    Aplikace
    | 2022 | Agilent Technologies
    ICP/MS
    Instrumentace
    ICP/MS
    Výrobce
    Agilent Technologies
    Zaměření
    Průmysl a chemie, Polovodiče

    Improvement of ICP-MS detectability of phosphorus and titanium in high purity silicon samples using the Agilent 8800 Triple Quadrupole ICP-MS

    Aplikace
    | 2013 | Agilent Technologies
    ICP/MS, ICP/MS/MS
    Instrumentace
    ICP/MS, ICP/MS/MS
    Výrobce
    Agilent Technologies
    Zaměření
    Polovodiče

    Determination of trace elements in ultrapure semiconductor grade sulfuric acid using the Agilent 8900 ICP-QQQ in MS/MS mode

    Aplikace
    | 2018 | Agilent Technologies
    ICP/MS, ICP/MS/MS
    Instrumentace
    ICP/MS, ICP/MS/MS
    Výrobce
    Agilent Technologies
    Zaměření
    Polovodiče
     

    Mohlo by Vás zajímat


    LABOREXPO & PROCESEXPO 2024 (doprovodný odborný program)

    Čt, 16.5.2024
    LabRulez

    SHIMADZU: Pololetní události – Příležitosti k setkání s Vámi

    St, 15.5.2024
    SHIMADZU Handels GmbH - organizační složka

    Přednáška LABOREXPO 2024: Analýza rozličných látek v kultivačním médiu

    Út, 28.5.2024
    LabRulez
    Další projekty
    Sledujte nás
    Další informace
    WebinářeO násKontaktujte násPodmínky užití
    LabRulez s.r.o. Všechna práva vyhrazena. Obsah dostupný pod licencí CC BY-SA 4.0 Uveďte původ-Zachovejte licenci.