Rozcestník
Další informace
WebinářeO násKontaktujte násPodmínky užití
LabRulez s.r.o. Všechna práva vyhrazena. Obsah dostupný pod licencí CC BY-SA 4.0 Uveďte původ-Zachovejte licenci.
Aplikace z oblasti Polovodiče | LabRulez ICPMS
Quality control of semiconductor acid baths as per ASTM E1655 – Time- and cost-efficient with NIRS
Technické články
| 2021 | Metrohm
NIR Spektroskopie
Instrumentace
NIR Spektroskopie
Výrobce
Metrohm
Zaměření
Polovodiče
Quality Control of Laminates
Aplikace
| 2021 | Metrohm
NIR Spektroskopie
Instrumentace
NIR Spektroskopie
Výrobce
Metrohm
Zaměření
Polovodiče
Direct Analysis of Metallic Impurities in SiC and GaN Wafers by LA-GED-MSAG-ICP-MS/MS
Aplikace
| 2023 | Agilent Technologies
ICP/MS, ICP/MS/MS, Laserová ablace
Instrumentace
ICP/MS, ICP/MS/MS, Laserová ablace
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Polovodiče
Analysis of Metallic Impurities in Specialty Semiconductor Gases Using Gas Exchange Device (GED)-ICP-MS
Aplikace
| 2022 | Agilent Technologies
ICP/MS, ICP/MS/MS
Instrumentace
ICP/MS, ICP/MS/MS
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Polovodiče
Ultrapure Process Chemicals Analysis by ICP-QQQ with Hot Plasma Conditions
Aplikace
| 2021 | Agilent Technologies
ICP/MS, ICP/MS/MS
Instrumentace
ICP/MS, ICP/MS/MS
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Polovodiče
Characterization of Iron Nanoparticles in Hydrocarbon Matrices by Single Particle (sp)ICP-MS
Aplikace
| 2022 | Agilent Technologies
ICP/MS
Instrumentace
ICP/MS
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Průmysl a chemie, Polovodiče
Determination of Trace Impurities in Electronic Grade Arsine by GC-ICP-QQQ
Aplikace
| 2020 | Agilent Technologies
GC, ICP/MS, Speciační analýza, ICP/MS/MS
Instrumentace
GC, ICP/MS, Speciační analýza, ICP/MS/MS
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Polovodiče
WCPS: The Analysis and Stability of High Purity TetraMethylAm m onium Hyrdoxide (TMAH) with the Agilent 8900 QQQ-ICPMS
Postery
| 2018 | Agilent Technologies
ICP/MS, ICP/MS/MS
Instrumentace
ICP/MS, ICP/MS/MS
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Polovodiče
Mohlo by Vás zajímat
Další informace
WebinářeO násKontaktujte násPodmínky užití
LabRulez s.r.o. Všechna práva vyhrazena. Obsah dostupný pod licencí CC BY-SA 4.0 Uveďte původ-Zachovejte licenci.