Rozcestník
Další informace
WebinářeO násKontaktujte násPodmínky užití
LabRulez s.r.o. Všechna práva vyhrazena. Obsah dostupný pod licencí CC BY-SA 4.0 Uveďte původ-Zachovejte licenci.
Aplikace z oblasti Průmysl a chemie | LabRulez ICPMS
Measurement of TOC in Electroplating Solution Using TOC-V WS
Aplikace
| N/A | Shimadzu
TOC
Instrumentace
TOC
Výrobce
Shimadzu
Zaměření
Průmysl a chemie
Determination of Elemental Impurities in Copper Sulfate using ICP-OES
Aplikace
| 2023 | Agilent Technologies
ICP/OES
Instrumentace
ICP/OES
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Životní prostředí, Průmysl a chemie
Determination of Trace Impurities in High-Purity Copper by Sequential ICP-OES with Axial Viewing
Aplikace
| 2010 | Agilent Technologies
ICP/OES
Instrumentace
ICP/OES
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Průmysl a chemie
Analysis of Ultratrace Impurities in High Purity Copper using the Agilent 8900 ICP-QQQ
Aplikace
| 2018 | Agilent Technologies
ICP/MS, ICP/MS/MS
Instrumentace
ICP/MS, ICP/MS/MS
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Průmysl a chemie, Polovodiče
Quantitative analysis of high purity metals using laser ablation coupled to an Agilent 7900 ICP-MS
Aplikace
| 2015 | Agilent Technologies
ICP/MS, Laserová ablace
Instrumentace
ICP/MS, Laserová ablace
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Průmysl a chemie, Polovodiče
Measurement of Metal Ion in Plating Solution by Flame Atomic Absorption
Aplikace
| 2013 | Shimadzu
AAS
Instrumentace
AAS
Výrobce
Shimadzu
Zaměření
Průmysl a chemie
Determination of Elemental Impurities in Copper Sulfate using ICP-OES
Aplikace
| 2023 | Agilent Technologies
ICP/OES
Instrumentace
ICP/OES
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Životní prostředí, Průmysl a chemie
Onsite additive depletion monitoring in turbine oils by FTIR spectroscopy
Aplikace
| 2011 | Agilent Technologies
FTIR Spektroskopie
Instrumentace
FTIR Spektroskopie
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Průmysl a chemie
Mohlo by Vás zajímat
Další informace
WebinářeO násKontaktujte násPodmínky užití
LabRulez s.r.o. Všechna práva vyhrazena. Obsah dostupný pod licencí CC BY-SA 4.0 Uveďte původ-Zachovejte licenci.