Rozcestník
Další informace
WebinářeO násKontaktujte násPodmínky užití
LabRulez s.r.o. Všechna práva vyhrazena. Obsah dostupný pod licencí CC BY-SA 4.0 Uveďte původ-Zachovejte licenci.
Aplikace z oblasti Materiálová analýza | LabRulez ICPMS
Evaluation of the Cary Absolute Specular Reflectance Accessory for the Measurement of Optical Constants of Thin Films
Aplikace
| 2023 | Agilent Technologies
NIR Spektroskopie, UV–VIS Spektrofotometrie
Instrumentace
NIR Spektroskopie, UV–VIS Spektrofotometrie
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Materiálová analýza
Evaluation of the Cary Absolute Specular Reflectance accessory for the measurement of optical constants of thin films
Aplikace
| 2011 | Agilent Technologies
UV–VIS Spektrofotometrie
Instrumentace
UV–VIS Spektrofotometrie
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Materiálová analýza
Quantitative Analysis of Amount of Deposition and Plating Thickness: Multilayer and Irregular Shaped Sample
Aplikace
| 2021 | Shimadzu
X-ray
Instrumentace
X-ray
Výrobce
Shimadzu
Zaměření
Materiálová analýza
EDXRF Analysis of Polymer Film
Aplikace
| N/A | Shimadzu
X-ray
Instrumentace
X-ray
Výrobce
Shimadzu
Zaměření
Materiálová analýza
Analysis of Discoloration and Coloration Using FTIR and EDX
Aplikace
| 2016 | Shimadzu
FTIR Spektroskopie, X-ray
Instrumentace
FTIR Spektroskopie, X-ray
Výrobce
Shimadzu
Zaměření
Materiálová analýza
Identification of Copper Concentrates Using EDX and XRD
Aplikace
| 2021 | Shimadzu
X-ray, XRD
Instrumentace
X-ray, XRD
Výrobce
Shimadzu
Zaměření
Materiálová analýza
Evaluating Optical Properties of Diamonds and Natural Gemstones
Aplikace
| 2018 | Shimadzu
UV–VIS Spektrofotometrie
Instrumentace
UV–VIS Spektrofotometrie
Výrobce
Shimadzu
Zaměření
Materiálová analýza
Quantitative Analysis of Film Thicknesses of Multi-Layer Plating Used on Cards
Aplikace
| 2018 | Shimadzu
X-ray
Instrumentace
X-ray
Výrobce
Shimadzu
Zaměření
Materiálová analýza
Mohlo by Vás zajímat
Další informace
WebinářeO násKontaktujte násPodmínky užití
LabRulez s.r.o. Všechna práva vyhrazena. Obsah dostupný pod licencí CC BY-SA 4.0 Uveďte původ-Zachovejte licenci.