ICPMS
Další informace
WebinářeO násKontaktujte násPodmínky užití
LabRulez s.r.o. Všechna práva vyhrazena. Obsah dostupný pod licencí CC BY-SA 4.0 Uveďte původ-Zachovejte licenci.
    1. Databáze

    1. Zaměření

    1. Instrumentace

    1. Výrobce

    1. Autor

    1. Typ Publikace

    1. Rok vydání

    Aplikace z oblasti Materiálová analýza | LabRulez ICPMS

    ADVANCED SOLUTIONS FOR POLYMERS AND PLASTICS

    Postery
    | 2017 | PerkinElmer
    GC/MSD, HeadSpace, Termální desorpce, GC/SQ, HPLC, LC/MS, LC/MS/MS, LC/QQQ
    Instrumentace
    GC/MSD, HeadSpace, Termální desorpce, GC/SQ, HPLC, LC/MS, LC/MS/MS, LC/QQQ
    Výrobce
    PerkinElmer
    Zaměření
    Materiálová analýza

    FTIR and UV-Vis Technology for Art Conservation

    Ostatní
    | 2015 | Agilent Technologies
    UV–VIS Spektrofotometrie, FTIR Spektroskopie
    Instrumentace
    UV–VIS Spektrofotometrie, FTIR Spektroskopie
    Výrobce
    Agilent Technologies
    Zaměření
    Materiálová analýza

    Solutions for Plastic Evaluation

    Příručky
    | 2013 | Shimadzu
    Termální analýza, GC/SQ, LC/SQ, LC/MS, LC/TOF, GC/MSD, MALDI, GC, HeadSpace, HPLC, LC/IT
    Instrumentace
    Termální analýza, GC/SQ, LC/SQ, LC/MS, LC/TOF, GC/MSD, MALDI, GC, HeadSpace, HPLC, LC/IT
    Výrobce
    Shimadzu
    Zaměření
    Materiálová analýza

    Investigation of Dichroism by Spectrophotometric Methods

    Aplikace
    | 2019 | Agilent Technologies
    NIR Spektroskopie, UV–VIS Spektrofotometrie
    Instrumentace
    NIR Spektroskopie, UV–VIS Spektrofotometrie
    Výrobce
    Agilent Technologies
    Zaměření
    Materiálová analýza

    Rechargeable Lithium-Ion Battery Evaluation

    Brožury a specifikace
    | 2017 | Shimadzu
    GC, GC/MSD, GC/SQ, HPLC, ICP/MS, ICP/OES, FTIR Spektroskopie, Mikroskopie, X-ray, XRD
    Instrumentace
    GC, GC/MSD, GC/SQ, HPLC, ICP/MS, ICP/OES, FTIR Spektroskopie, Mikroskopie, X-ray, XRD
    Výrobce
    Shimadzu
    Zaměření
    Průmysl a chemie, Materiálová analýza

    Shimadzu Journal Vol. 02 - Material Science

    Ostatní
    | 2014 | Shimadzu
    MALDI, LC/TOF, LC/MS, GPC/SEC, Mikroskopie
    Instrumentace
    MALDI, LC/TOF, LC/MS, GPC/SEC, Mikroskopie
    Výrobce
    Shimadzu
    Zaměření
    Materiálová analýza

    ART CONSERVATION WITH DESI MS IMAGING: DIRECT MAPPING OF COMPOUND LOCALIZATION ON WOOD SAMPLES

    Postery
    | 2023 | Waters (ASMS)
    Iontová mobilita, MS Imaging, LC/TOF, LC/HRMS, LC/MS, LC/MS/MS
    Instrumentace
    Iontová mobilita, MS Imaging, LC/TOF, LC/HRMS, LC/MS, LC/MS/MS
    Výrobce
    Waters
    Zaměření
    Materiálová analýza

    Coated Wafer Mapping Using UV-Vis Spectral Reflection and Transmission Measurements

    Aplikace
    | 2020 | Agilent Technologies
    NIR Spektroskopie, UV–VIS Spektrofotometrie
    Instrumentace
    NIR Spektroskopie, UV–VIS Spektrofotometrie
    Výrobce
    Agilent Technologies
    Zaměření
    Materiálová analýza, Polovodiče

    Evaluation of the Cary Absolute Specular Reflectance accessory for the measurement of optical constants of thin films

    Aplikace
    | 2011 | Agilent Technologies
    UV–VIS Spektrofotometrie
    Instrumentace
    UV–VIS Spektrofotometrie
    Výrobce
    Agilent Technologies
    Zaměření
    Materiálová analýza

    Evaluation of the Cary Absolute Specular Reflectance Accessory for the Measurement of Optical Constants of Thin Films

    Aplikace
    | 2023 | Agilent Technologies
    NIR Spektroskopie, UV–VIS Spektrofotometrie
    Instrumentace
    NIR Spektroskopie, UV–VIS Spektrofotometrie
    Výrobce
    Agilent Technologies
    Zaměření
    Materiálová analýza
     

    Mohlo by Vás zajímat


    Představení nového ICP‑MS 7900: jedinečná technologie a výkon

    Út, 28.5.2024
    Altium International

    Najděte svou vysněnou práci v analytické chemii s LabRulez KARIÉRA!

    Ne, 26.5.2024
    LabRulez

    LABOREXPO & PROCESEXPO 2024 (doprovodný odborný program)

    Čt, 16.5.2024
    LabRulez
    Další projekty
    Sledujte nás
    Další informace
    WebinářeO násKontaktujte násPodmínky užití
    LabRulez s.r.o. Všechna práva vyhrazena. Obsah dostupný pod licencí CC BY-SA 4.0 Uveďte původ-Zachovejte licenci.