Rozcestník
Další informace
WebinářeO násKontaktujte násPodmínky užití
LabRulez s.r.o. Všechna práva vyhrazena. Obsah dostupný pod licencí CC BY-SA 4.0 Uveďte původ-Zachovejte licenci.
Aplikace z oblasti Materiálová analýza | LabRulez ICPMS
Lead in lead-free solder – EDX-720
Ostatní
| 2006 | Shimadzu
X-ray
Instrumentace
X-ray
Výrobce
Shimadzu
Zaměření
Materiálová analýza
Quantification of embedded H2O in soft contact lenses by NIR spectroscopy
Aplikace
| N/A | Metrohm
NIR Spektroskopie
Instrumentace
NIR Spektroskopie
Výrobce
Metrohm
Zaměření
Materiálová analýza
Inline analysis of borate and sulfate solutions with Raman spectroscopy
Aplikace
| 2023 | Metrohm
RAMAN Spektrometrie
Instrumentace
RAMAN Spektrometrie
Výrobce
Metrohm
Zaměření
Materiálová analýza
The Determination of Hazardous Substances According to RoHS and WEEE Directives
Aplikace
| N/A | Shimadzu
AAS, X-ray
Instrumentace
AAS, X-ray
Výrobce
Shimadzu
Zaměření
Materiálová analýza
Polymers and Rubbers Application Compendium
Příručky
| 2010 | Agilent Technologies
HPLC, LC/MS, SFC, GPC/SEC, LC/SQ, FTIR Spektroskopie, Mikroskopie
Instrumentace
HPLC, LC/MS, SFC, GPC/SEC, LC/SQ, FTIR Spektroskopie, Mikroskopie
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Průmysl a chemie, Materiálová analýza
LiDAR Evaluation System: Measurement of Transmittance/Reflectance of Optical Materials
Aplikace
| 2021 | Shimadzu
NIR Spektroskopie, UV–VIS Spektrofotometrie
Instrumentace
NIR Spektroskopie, UV–VIS Spektrofotometrie
Výrobce
Shimadzu
Zaměření
Materiálová analýza
On-site detection of hexavalent chromium in protective paint primers
Technické články
| 2021 | Metrohm
RAMAN Spektrometrie
Instrumentace
RAMAN Spektrometrie
Výrobce
Metrohm
Zaměření
Materiálová analýza
WCPS: Determination of ultra-trace level impurities in high-purity metal samples by ICP-QQQ
Postery
| 2017 | Agilent Technologies
ICP/MS, ICP/MS/MS
Instrumentace
ICP/MS, ICP/MS/MS
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Materiálová analýza
Další informace
WebinářeO násKontaktujte násPodmínky užití
LabRulez s.r.o. Všechna práva vyhrazena. Obsah dostupný pod licencí CC BY-SA 4.0 Uveďte původ-Zachovejte licenci.