Rozcestník
Další informace
WebinářeO násKontaktujte násPodmínky užití
LabRulez s.r.o. Všechna práva vyhrazena. Obsah dostupný pod licencí CC BY-SA 4.0 Uveďte původ-Zachovejte licenci.
Aplikace se zaměřením na Spotřební materiál | LabRulez ICPMS
Benefits of radiello® Passive Sampling Devices
Prezentace
| 2011 | Merck
Termální desorpce, Příprava vzorků, Spotřební materiál
Instrumentace
Termální desorpce, Příprava vzorků, Spotřební materiál
Výrobce
Merck
Zaměření
Klinická analýza
Radiello® Passive Samplers and Vapor Intrusion
Technické články
| N/A | Merck
Příprava vzorků, Spotřební materiál
Instrumentace
Příprava vzorků, Spotřební materiál
Výrobce
Merck
Zaměření
Životní prostředí
C1 to C10 Ethyl Esters
Aplikace
| N/A | Quadrex
GC, GC kolony, Spotřební materiál
Instrumentace
GC, GC kolony, Spotřební materiál
Výrobce
Quadrex
Zaměření
Průmysl a chemie
Aspects of Passive Air Sampling
Prezentace
| 2012 | Merck
Termální desorpce, Příprava vzorků, Spotřební materiál
Instrumentace
Termální desorpce, Příprava vzorků, Spotřební materiál
Výrobce
Merck
Zaměření
Životní prostředí
Agilent Environmental Solutions
Postery
| 2015 | Agilent Technologies
GC/MSD, GC/MS/MS, HeadSpace, Termální desorpce, GC/QQQ, Spotřební materiál, Software, HPLC, LC/TOF, LC/HRMS, LC/MS, LC/MS/MS, LC/QQQ, LC/SQ, ICP/MS, ICP/OES
Instrumentace
GC/MSD, GC/MS/MS, HeadSpace, Termální desorpce, GC/QQQ, Spotřební materiál, Software, HPLC, LC/TOF, LC/HRMS, LC/MS, LC/MS/MS, LC/QQQ, LC/SQ, ICP/MS, ICP/OES
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Životní prostředí
Increase GC Speed without Sacrificing Resolution: The Principles of Fast GC
Prezentace
| 2014 | Merck
GC, GC kolony, Spotřební materiál
Instrumentace
GC, GC kolony, Spotřební materiál
Výrobce
Merck
Zaměření
Fundamentals of Gas Chromatography: Theory and Hardware, Mass Spectrometry Fundamentals –Theory and Hardware
Prezentace
| 2020 | Agilent Technologies
GC, GC/MSD, GC/MS/MS, GC/HRMS, GC/IT, GC/SQ, GC/QQQ, GC kolony, Spotřební materiál, LC/TOF, LC/HRMS, LC/MS, LC/MS/MS, LC kolony, LC/QQQ, LC/SQ, LC/IT
Instrumentace
GC, GC/MSD, GC/MS/MS, GC/HRMS, GC/IT, GC/SQ, GC/QQQ, GC kolony, Spotřební materiál, LC/TOF, LC/HRMS, LC/MS, LC/MS/MS, LC kolony, LC/QQQ, LC/SQ, LC/IT
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Radiello Diffusive Sampler for Monitoring 1,3-Butadiene and Isoprene in Workplace Air
Technické články
| N/A | Merck
Termální desorpce, Příprava vzorků, Spotřební materiál
Instrumentace
Termální desorpce, Příprava vzorků, Spotřební materiál
Výrobce
Merck
Zaměření
Životní prostředí
Shimadzu Analytical and Measuring Instrument
Brožury a specifikace
| 2023 | Shimadzu
GC, GCxGC, GC/MSD, GC/MS/MS, HeadSpace, SPME, Termální desorpce, Příprava vzorků, Pyrolýza, GC/SQ, GC/QQQ, Spotřební materiál, Software, MALDI, MS Imaging, HPLC, LC/TOF, LC/HRMS, LC/MS, LC/MS/MS, LC kolony, LC/QQQ, DART, LC/SQ, PrepLC, RAMAN Spektrometrie, NIR Spektroskopie, UV–VIS Spektrofotometrie, ICP/MS, ICP/OES, AAS, FTIR Spektroskopie, MP/ICP-AES, X-ray, XRD, TOC
Instrumentace
GC, GCxGC, GC/MSD, GC/MS/MS, HeadSpace, SPME, Termální desorpce, Příprava vzorků, Pyrolýza, GC/SQ, GC/QQQ, Spotřební materiál, Software, MALDI, MS Imaging, HPLC, LC/TOF, LC/HRMS, LC/MS, LC/MS/MS, LC kolony, LC/QQQ, DART, LC/SQ, PrepLC, RAMAN Spektrometrie, NIR Spektroskopie, UV–VIS Spektrofotometrie, ICP/MS, ICP/OES, AAS, FTIR Spektroskopie, MP/ICP-AES, X-ray, XRD, TOC
Výrobce
Shimadzu
Zaměření
The Measure of Purity - Water quality applications
Příručky
| 2019 | Agilent Technologies
GC/MSD, GC/MS/MS, HeadSpace, Purge and Trap, GC/SQ, GC/QQQ, Spotřební materiál, HPLC, LC/TOF, LC/HRMS, LC/MS, LC/MS/MS, LC/QQQ, UV–VIS Spektrofotometrie, ICP/MS, ICP/OES, AAS, MP/ICP-AES
Instrumentace
GC/MSD, GC/MS/MS, HeadSpace, Purge and Trap, GC/SQ, GC/QQQ, Spotřební materiál, HPLC, LC/TOF, LC/HRMS, LC/MS, LC/MS/MS, LC/QQQ, UV–VIS Spektrofotometrie, ICP/MS, ICP/OES, AAS, MP/ICP-AES
Výrobce
Agilent Technologies, Elemental Scientific
Zaměření
Životní prostředí
Mohlo by Vás zajímat
Další informace
WebinářeO násKontaktujte násPodmínky užití
LabRulez s.r.o. Všechna práva vyhrazena. Obsah dostupný pod licencí CC BY-SA 4.0 Uveďte původ-Zachovejte licenci.