ICPMS
Další informace
WebinářeO násKontaktujte násPodmínky užití
LabRulez s.r.o. Všechna práva vyhrazena. Obsah dostupný pod licencí CC BY-SA 4.0 Uveďte původ-Zachovejte licenci.
    1. Databáze

    1. Zaměření

    1. Instrumentace

    1. Výrobce

    1. Autor

    1. Typ Publikace

    1. Rok vydání

    Aplikace se zaměřením na Spotřební materiál | LabRulez ICPMS

    C1 – C3 Hydrocarbon Analysis Using the Agilent 490 Micro GC – Separation Characteristics for PoraPLOT U and PoraPLOT Q Column Channels

    Aplikace
    | 2012 | Agilent Technologies
    GC, GC kolony, Spotřební materiál
    Instrumentace
    GC, GC kolony, Spotřební materiál
    Výrobce
    Agilent Technologies
    Zaměření
    Průmysl a chemie

    Lower Detection Limits and Quantitate with Confidence with Breakthrough Ultra Inert Technology

    Prezentace
    | 2011 | Agilent Technologies
    GC, GC/MSD, Spotřební materiál
    Instrumentace
    GC, GC/MSD, Spotřební materiál
    Výrobce
    Agilent Technologies
    Zaměření

    EPA Method 541 UCMR4 Standard at Method Reporting Limit on Stabilwax (SIM)

    Aplikace
    | 2017 | Restek
    GC/MSD, GC/SQ, GC kolony, Spotřební materiál
    Instrumentace
    GC/MSD, GC/SQ, GC kolony, Spotřební materiál
    Výrobce
    Agilent Technologies, Restek
    Zaměření
    Životní prostředí

    Application and Limitation of using Adsorbents as Stationary Phases in Gas Chromatography for the Separation of Volatile Compounds

    Příručky
    | N/A | Restek
    GC kolony, Spotřební materiál
    Instrumentace
    GC kolony, Spotřební materiál
    Výrobce
    Restek
    Zaměření

    EPA Method 530 UCMR4 Standard at Method Reporting Limit on Rtx-1701 (SIM)

    Aplikace
    | 2017 | Restek
    GC/MSD, GC/SQ, GC kolony, Spotřební materiál
    Instrumentace
    GC/MSD, GC/SQ, GC kolony, Spotřební materiál
    Výrobce
    Agilent Technologies, Restek
    Zaměření
    Životní prostředí

    EPA Method 541 UCMR4 Standard at 10x the Method Reporting Limit on Stabilwax (SIM)

    Aplikace
    | 2017 | Restek
    GC/MSD, GC/SQ, GC kolony, Spotřební materiál
    Instrumentace
    GC/MSD, GC/SQ, GC kolony, Spotřební materiál
    Výrobce
    Agilent Technologies, Restek
    Zaměření
    Životní prostředí

    A Means of Improving the Resolution Between Acetaldehyde and Methanol in the Limit Test for 96% Ethanol (Ph.Eur.1317)

    Aplikace
    | 2019 | Phenomenex
    GC kolony, Spotřební materiál
    Instrumentace
    GC kolony, Spotřební materiál
    Výrobce
    Phenomenex
    Zaměření
    Průmysl a chemie

    EPA Method 530 UCMR4 Standard at 10x the Method Reporting Limit on Rtx-1701 (SIM)

    Aplikace
    | 2017 | Restek
    GC/MSD, GC/SQ, GC kolony, Spotřební materiál
    Instrumentace
    GC/MSD, GC/SQ, GC kolony, Spotřební materiál
    Výrobce
    Agilent Technologies, Restek
    Zaměření
    Životní prostředí

    EPA Method 530 UCMR4 Standard at Method Reporting Limit on Rxi-5Sil MS (SIM)

    Aplikace
    | 2017 | Restek
    GC/MSD, GC/SQ, GC kolony, Spotřební materiál
    Instrumentace
    GC/MSD, GC/SQ, GC kolony, Spotřební materiál
    Výrobce
    Agilent Technologies, Restek
    Zaměření
    Životní prostředí

    Radiello® Passive Samplers and Vapor Intrusion

    Technické články
    | N/A | Merck
    Příprava vzorků, Spotřební materiál
    Instrumentace
    Příprava vzorků, Spotřební materiál
    Výrobce
    Merck
    Zaměření
    Životní prostředí
     

    Mohlo by Vás zajímat


    Představení nového ICP‑MS 7900: jedinečná technologie a výkon

    Út, 28.5.2024
    Altium International

    Najděte svou vysněnou práci v analytické chemii s LabRulez KARIÉRA!

    Ne, 26.5.2024
    LabRulez

    LABOREXPO & PROCESEXPO 2024 (doprovodný odborný program)

    Čt, 16.5.2024
    LabRulez
    Další projekty
    Sledujte nás
    Další informace
    WebinářeO násKontaktujte násPodmínky užití
    LabRulez s.r.o. Všechna práva vyhrazena. Obsah dostupný pod licencí CC BY-SA 4.0 Uveďte původ-Zachovejte licenci.