Rozcestník
Novinky
Novinky
Nejbližší akce
Akademie - již brzy
Knihovna
ICPMS
GCMS
LCMS
Webináře
Webináře
Produkty
Přístroje a služby
Bazar
Společnosti
Komerční
Nekomerční
Mediální
Kariéra
Nabídky práce
Další informace
Webináře
O nás
Kontaktujte nás
Podmínky užití
LabRulez s.r.o. Všechna práva vyhrazena. Obsah dostupný pod licencí CC BY-SA 4.0 Uveďte původ-Zachovejte licenci.
Novinky
Knihovna
Webináře
Produkty
Společnosti
Kariéra
Novinky
Nejbližší akce
Akademie - již brzy
ICPMS
GCMS
LCMS
Webináře
Přístroje a služby
Bazar
Komerční
Nekomerční
Mediální
Nabídky práce
Databáze
ICPMS
GCMS
LCMS
Zaměření
Farmaceutická analýza
(1)
Klinická analýza
(1)
Materiálová analýza
(1)
Polovodiče
(12)
Instrumentace
ICP/MS
ICP/MS/MS
(15)
Laserová ablace
(1)
Speciační analýza
(2)
ICP/MS
Výrobce
Agilent Technologies
(27)
Autor
Agilent Technologies
GERSTEL
(1)
Shimadzu
(3)
Thermo Fisher Scientific
(1)
Agilent Technologies
Typ Publikace
Aplikace
Manuály
(1)
Ostatní
(13)
Postery
(7)
Aplikace
Rok vydání
Aplikace se zaměřením na ICP/MS od Agilent Technologies | LabRulez ICPMS
Ultrapure Process Chemicals Analysis by ICP-QQQ with Hot Plasma Conditions
Aplikace
| 2021 | Agilent Technologies
ICP/MS, ICP/MS/MS
Instrumentace
ICP/MS, ICP/MS/MS
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Polovodiče
Automated Surface Analysis of Metal Contaminants in Silicon Wafers by Online VPD-ICP-MS/MS
Aplikace
| 2023 | Agilent Technologies
ICP/MS, ICP/MS/MS
Instrumentace
ICP/MS, ICP/MS/MS
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Polovodiče
Sulfur isotope fractionation analysis in mineral waters using an Agilent 8900 ICP-QQQ
Aplikace
| 2016 | Agilent Technologies
ICP/MS, ICP/MS/MS
Instrumentace
ICP/MS, ICP/MS/MS
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Životní prostředí
Analysis of Ultratrace Impurities in High Purity Copper using the Agilent 8900 ICP-QQQ
Aplikace
| 2018 | Agilent Technologies
ICP/MS, ICP/MS/MS
Instrumentace
ICP/MS, ICP/MS/MS
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Průmysl a chemie, Polovodiče
Ultra-Trace Analysis of Beryllium in Water and Industrial Hygiene Samples by ICP-MS
Aplikace
| 2006 | Agilent Technologies
ICP/MS
Instrumentace
ICP/MS
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Životní prostředí
Direct Analysis of Trace Metallic Impurities in High Purity Hydrochloric Acid by 7700s/7900 ICP-MS
Aplikace
| 2017 | Agilent Technologies
ICP/MS
Instrumentace
ICP/MS
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Průmysl a chemie
Improvement of ICP-MS detectability of phosphorus and titanium in high purity silicon samples using the Agilent 8800 Triple Quadrupole ICP-MS
Aplikace
| 2013 | Agilent Technologies
ICP/MS, ICP/MS/MS
Instrumentace
ICP/MS, ICP/MS/MS
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Polovodiče
Ultratrace Impurity Analysis of Ultrapure Water with Low Boron Background by ICP-MS/MS
Aplikace
| 2024 | Agilent Technologies
ICP/MS, ICP/MS/MS
Instrumentace
ICP/MS, ICP/MS/MS
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Polovodiče
Single Nanoparticle Analysis of Asphaltene Solutions using ICP-QQQ
Aplikace
| 2018 | Agilent Technologies
ICP/MS, ICP/MS/MS
Instrumentace
ICP/MS, ICP/MS/MS
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Průmysl a chemie
RoHS/ELV Directives - Measurement of Heavy Metals Using ICP-MS
Aplikace
| 2006 | Agilent Technologies
ICP/MS
Instrumentace
ICP/MS
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Životní prostředí
Před
1
2
...
Další
Mohlo by Vás zajímat
Představení nového ICP‑MS 7900: jedinečná technologie a výkon
Út, 28.5.2024
Altium International
Najděte svou vysněnou práci v analytické chemii s LabRulez KARIÉRA!
Ne, 26.5.2024
LabRulez
LABOREXPO & PROCESEXPO 2024 (doprovodný odborný program)
Čt, 16.5.2024
LabRulez
Další projekty
Sledujte nás
Další informace
Webináře
O nás
Kontaktujte nás
Podmínky užití
LabRulez s.r.o. Všechna práva vyhrazena. Obsah dostupný pod licencí CC BY-SA 4.0 Uveďte původ-Zachovejte licenci.