ICPMS
Další informace
WebinářeO násKontaktujte násPodmínky užití
LabRulez s.r.o. Všechna práva vyhrazena. Obsah dostupný pod licencí CC BY-SA 4.0 Uveďte původ-Zachovejte licenci.
    1. Databáze

    1. Zaměření

    1. Instrumentace

    1. Výrobce

    1. Autor

    1. Typ Publikace

    1. Rok vydání

    Aplikace se zaměřením na ICP/MS od Agilent Technologies | LabRulez ICPMS

    Gas chromatographic separation of metal carbonyls in carbon monoxide with detection using the Agilent 8800 ICP-QQQ

    Aplikace
    | 2016 | Agilent Technologies
    GC, ICP/MS, Speciační analýza, ICP/MS/MS
    Instrumentace
    GC, ICP/MS, Speciační analýza, ICP/MS/MS
    Výrobce
    Agilent Technologies
    Zaměření
    Průmysl a chemie, Polovodiče

    Ultratrace measurement of calcium in ultrapure water using the Agilent 8800 Triple Quadrupole ICP-MS

    Aplikace
    | 2012 | Agilent Technologies
    ICP/MS, ICP/MS/MS
    Instrumentace
    ICP/MS, ICP/MS/MS
    Výrobce
    Agilent Technologies
    Zaměření
    Polovodiče

    Using Lead Isotope Ratios to Distinguish between Samples of the Traditional Chinese Medicine Dan-shen

    Aplikace
    | 2002 | Agilent Technologies
    ICP/MS
    Instrumentace
    ICP/MS
    Výrobce
    Agilent Technologies
    Zaměření
    Životní prostředí

    Smart Health Checks for ICP-MS

    Technické články
    | 2021 | Agilent Technologies
    ICP/MS, ICP/MS/MS
    Instrumentace
    ICP/MS, ICP/MS/MS
    Výrobce
    Agilent Technologies
    Zaměření

    Agilent Atomic Spectroscopy Solutions for the Semiconductor Industry

    Příručky
    | 2020 | Agilent Technologies
    ICP/MS, ICP/OES, AAS, ICP/MS/MS, MP/ICP-AES
    Instrumentace
    ICP/MS, ICP/OES, AAS, ICP/MS/MS, MP/ICP-AES
    Výrobce
    Agilent Technologies
    Zaměření
    Polovodiče

    This is How you ICP-MS: Mastering the Art of Cone Performance

    Technické články
    | 2019 | Agilent Technologies
    ICP/MS, ICP/MS/MS
    Instrumentace
    ICP/MS, ICP/MS/MS
    Výrobce
    Agilent Technologies
    Zaměření

    Direct Analysis of Metallic Impurities in SiC and GaN Wafers by LA-GED-MSAG-ICP-MS/MS

    Aplikace
    | 2023 | Agilent Technologies
    ICP/MS, ICP/MS/MS, Laserová ablace
    Instrumentace
    ICP/MS, ICP/MS/MS, Laserová ablace
    Výrobce
    Agilent Technologies
    Zaměření
    Polovodiče

    Automated Analysis of Ultratrace Elemental Impurities in Isopropyl Alcohol

    Aplikace
    | 2022 | Agilent Technologies
    ICP/MS, ICP/MS/MS
    Instrumentace
    ICP/MS, ICP/MS/MS
    Výrobce
    Agilent Technologies
    Zaměření
    Polovodiče

    Direct Measurement of Metallic Impurities in 20% Ammonium Hydroxide by 7700s/7900 ICP-MS

    Aplikace
    | 2017 | Agilent Technologies
    ICP/MS
    Instrumentace
    ICP/MS
    Výrobce
    Agilent Technologies
    Zaměření
    Polovodiče

    Determination of challenging elements in ultrapure semiconductor grade sulfuric acid by Triple Quadrupole ICP-MS

    Aplikace
    | 2015 | Agilent Technologies
    ICP/MS, ICP/MS/MS
    Instrumentace
    ICP/MS, ICP/MS/MS
    Výrobce
    Agilent Technologies
    Zaměření
    Polovodiče
     

    Mohlo by Vás zajímat


    Nový systém čištění vody ELGA Purelab Flex

    St, 8.5.2024
    Česká voda – MEMSEP, a.s.

    FACT …to funguje (Agilent ICP-OES)

    Út, 7.5.2024
    Altium International

    LABOREXPO & PROCESEXPO 2024 (doprovodný odborný program)

    Čt, 16.5.2024
    LabRulez
    Další projekty
    Sledujte nás
    Další informace
    WebinářeO násKontaktujte násPodmínky užití
    LabRulez s.r.o. Všechna práva vyhrazena. Obsah dostupný pod licencí CC BY-SA 4.0 Uveďte původ-Zachovejte licenci.