Rozcestník
Novinky
Novinky
Nejbližší akce
Akademie - již brzy
Knihovna
ICPMS
GCMS
LCMS
Webináře
Webináře
Produkty
Přístroje a služby
Bazar
Společnosti
Komerční
Nekomerční
Mediální
Kariéra
Nabídky práce
Další informace
Webináře
O nás
Kontaktujte nás
Podmínky užití
LabRulez s.r.o. Všechna práva vyhrazena. Obsah dostupný pod licencí CC BY-SA 4.0 Uveďte původ-Zachovejte licenci.
Novinky
Knihovna
Webináře
Produkty
Společnosti
Kariéra
Novinky
Nejbližší akce
Akademie - již brzy
ICPMS
GCMS
LCMS
Webináře
Přístroje a služby
Bazar
Komerční
Nekomerční
Mediální
Nabídky práce
Databáze
ICPMS
GCMS
LCMS
Zaměření
Farmaceutická analýza
(3)
Forenzní analýza a toxikologie
(1)
Klinická analýza
(1)
Materiálová analýza
(1)
Instrumentace
ICP/MS
ICP/MS/MS
(11)
ICP/OES
(2)
Laserová ablace
(2)
ICP/MS
Výrobce
Agilent Technologies
(21)
Elemental Scientific
(1)
Metrohm
(1)
Autor
Agilent Technologies
RAFA
(1)
Shimadzu
(4)
Thermo Fisher Scientific
(7)
Agilent Technologies
Typ Publikace
Aplikace
(10)
Brožury a specifikace
(1)
Manuály
(1)
Ostatní
(3)
Rok vydání
Aplikace se zaměřením na ICP/MS od Agilent Technologies | LabRulez ICPMS
Analysis of Nanoparticles in Organic Reagents by Agilent 8900 ICP-QQQ in spICP-MS Mode
Aplikace
| 2019 | Agilent Technologies
ICP/MS, ICP/MS/MS
Instrumentace
ICP/MS, ICP/MS/MS
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Polovodiče
Characterization of Iron Nanoparticles in Hydrocarbon Matrices by Single Particle (sp)ICP-MS
Aplikace
| 2022 | Agilent Technologies
ICP/MS
Instrumentace
ICP/MS
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Průmysl a chemie, Polovodiče
Analysis of 15 nm Iron Nanoparticles in Organic Solvents by spICP-MS
Aplikace
| 2020 | Agilent Technologies
ICP/MS, ICP/MS/MS
Instrumentace
ICP/MS, ICP/MS/MS
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Polovodiče
A New Technique for the Analysis of Corundum Using Laser Ablation ICP-MS
Aplikace
| 2004 | Agilent Technologies
ICP/MS, Laserová ablace
Instrumentace
ICP/MS, Laserová ablace
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Životní prostředí
Characterization of Trace Impurities in Silicon Wafers by High Sensitivity Reaction Cell ICP-MS
Aplikace
| 2003 | Agilent Technologies
ICP/MS
Instrumentace
ICP/MS
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Polovodiče
Direct Measurement of Metallic Impurities in 20% Ammonium Hydroxide by 7700s/7900 ICP-MS
Aplikace
| 2017 | Agilent Technologies
ICP/MS
Instrumentace
ICP/MS
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Polovodiče
Analysis of 50 nm Silica Nanoparticles in Semiconductor Process Chemicals by spICP-MS/MS
Aplikace
| 2023 | Agilent Technologies
ICP/MS, ICP/MS/MS
Instrumentace
ICP/MS, ICP/MS/MS
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Polovodiče
Determination of Trace Metal Impurities in Semiconductor Grade Phosphoric Acid by High Sensitivity Reaction Cell ICP-MS
Aplikace
| 2003 | Agilent Technologies
ICP/MS
Instrumentace
ICP/MS
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Polovodiče
Multielement Nanoparticle Analysis of Semiconductor Process Chemicals Using spICP-QQQ
Aplikace
| 2019 | Agilent Technologies
ICP/MS, ICP/MS/MS
Instrumentace
ICP/MS, ICP/MS/MS
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Polovodiče
Agilent ICP-MS Journal (April 2020, Issue 80)
Ostatní
| 2020 | Agilent Technologies
Software, ICP/MS, ICP/MS/MS
Instrumentace
Software, ICP/MS, ICP/MS/MS
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Polovodiče
Před
1
2
...
Další
Mohlo by Vás zajímat
Altium: Akční nabídka květen - srpen 2024
Út, 14.5.2024
Altium International
Konfigurátor roztoků ANALYTIKA – tvorba roztoku na míru
Po, 13.5.2024
ANALYTIKA
Pozvánka na Laborexpo - stánek SHIMADZU
Ne, 12.5.2024
SHIMADZU Handels GmbH - organizační složka
Další projekty
Sledujte nás
Další informace
Webináře
O nás
Kontaktujte nás
Podmínky užití
LabRulez s.r.o. Všechna práva vyhrazena. Obsah dostupný pod licencí CC BY-SA 4.0 Uveďte původ-Zachovejte licenci.