Rozcestník
Novinky
Novinky
Nejbližší akce
Akademie - již brzy
Knihovna
ICPMS
GCMS
LCMS
Webináře
Webináře
Produkty
Přístroje a služby
Bazar
Společnosti
Komerční
Nekomerční
Mediální
Kariéra
Nabídky práce
Další informace
Webináře
O nás
Kontaktujte nás
Podmínky užití
LabRulez s.r.o. Všechna práva vyhrazena. Obsah dostupný pod licencí CC BY-SA 4.0 Uveďte původ-Zachovejte licenci.
Novinky
Knihovna
Webináře
Produkty
Společnosti
Kariéra
Novinky
Nejbližší akce
Akademie - již brzy
ICPMS
GCMS
LCMS
Webináře
Přístroje a služby
Bazar
Komerční
Nekomerční
Mediální
Nabídky práce
Databáze
ICPMS
GCMS
LCMS
Zaměření
Farmaceutická analýza
(2)
Forenzní analýza a toxikologie
(1)
Klinická analýza
(2)
Materiálová analýza
(1)
Instrumentace
AAS
(1)
ICP/MS
ICP/MS/MS
(17)
ICP/OES
(2)
ICP/MS
Výrobce
Agilent Technologies
(40)
Elemental Scientific
(2)
Metrohm
(1)
Autor
Agilent Technologies
RAFA
(1)
Savillex
(3)
Shimadzu
(4)
Agilent Technologies
Typ Publikace
Aplikace
(11)
Ostatní
(8)
Postery
(3)
Příručky
(11)
Rok vydání
Aplikace se zaměřením na ICP/MS od Agilent Technologies | LabRulez ICPMS
ENHANCED HELIUM MODE CELL PERFORMANCE FOR IMPROVED INTERFERENCE REMOVAL IN ICP-MS
Ostatní
| 2015 | Agilent Technologies
ICP/MS
Instrumentace
ICP/MS
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
WCPS: Enhancing Helium Mode Performance to Provide Improved Detection Limits for Difficult Elements Including S, P, Fe, and Se
Postery
| 2011 | Agilent Technologies
ICP/MS
Instrumentace
ICP/MS
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Potraviny a zemědělství
Direct Analysis of Trace Metallic Impurities in High Purity Hydrochloric Acid by 7700s/7900 ICP-MS
Aplikace
| 2017 | Agilent Technologies
ICP/MS
Instrumentace
ICP/MS
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Průmysl a chemie
Basic Performance of the Agilent 7700s ICP-MS for the Analysis of Semiconductor Samples
Technické články
| 2010 | Agilent Technologies
ICP/MS
Instrumentace
ICP/MS
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Polovodiče
PLASMA ROBUSTNESS IN ICP-MS BENEFITS OF A LOW CeO/Ce RATIO
Ostatní
| 2015 | Agilent Technologies
ICP/MS
Instrumentace
ICP/MS
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Plasma Robustness and Matrix Tolerance
Technické články
| 2020 | Agilent Technologies
ICP/MS
Instrumentace
ICP/MS
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Technical Overview and Performance Capability of the Agilent 7900s ICP-MS for Semiconductor Applications
Technické články
| 2020 | Agilent Technologies
ICP/MS
Instrumentace
ICP/MS
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Polovodiče
Agilent ICP-MS Journal (May 2022, Issue 88)
Ostatní
| 2022 | Agilent Technologies
ICP/MS, ICP/MS/MS, Laserová ablace
Instrumentace
ICP/MS, ICP/MS/MS, Laserová ablace
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Ultra-Trace Analysis of Organophosphorus Chemical Warfare Agent Degradation Products by HPLC-ICP-MS
Aplikace
| 2006 | Agilent Technologies
HPLC, ICP/MS, Speciační analýza
Instrumentace
HPLC, ICP/MS, Speciační analýza
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Nebezpečné látky
WCPS: Trace Level Analysis of V, As and Se Using He Cell Gas via Kinetic Energy Discrimination and Collisional Dissociation in Acidic Matrices
Postery
| 2010 | Agilent Technologies
ICP/MS
Instrumentace
ICP/MS
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Před
1
2
...
Další
Mohlo by Vás zajímat
Představení nového ICP‑MS 7900: jedinečná technologie a výkon
Út, 28.5.2024
Altium International
Najděte svou vysněnou práci v analytické chemii s LabRulez KARIÉRA!
Ne, 26.5.2024
LabRulez
LABOREXPO & PROCESEXPO 2024 (doprovodný odborný program)
Čt, 16.5.2024
LabRulez
Další projekty
Sledujte nás
Další informace
Webináře
O nás
Kontaktujte nás
Podmínky užití
LabRulez s.r.o. Všechna práva vyhrazena. Obsah dostupný pod licencí CC BY-SA 4.0 Uveďte původ-Zachovejte licenci.