Rozcestník
Novinky
Novinky
Nejbližší akce
Akademie - již brzy
Knihovna
ICPMS
GCMS
LCMS
Webináře
Webináře
Produkty
Přístroje a služby
Bazar
Společnosti
Komerční
Nekomerční
Mediální
Kariéra
Nabídky práce
Další informace
Webináře
O nás
Kontaktujte nás
Podmínky užití
LabRulez s.r.o. Všechna práva vyhrazena. Obsah dostupný pod licencí CC BY-SA 4.0 Uveďte původ-Zachovejte licenci.
Novinky
Knihovna
Webináře
Produkty
Společnosti
Kariéra
Novinky
Nejbližší akce
Akademie - již brzy
ICPMS
GCMS
LCMS
Webináře
Přístroje a služby
Bazar
Komerční
Nekomerční
Mediální
Nabídky práce
Databáze
ICPMS
GCMS
LCMS
Zaměření
Farmaceutická analýza
(5)
Materiálová analýza
(3)
Polovodiče
(23)
Potraviny a zemědělství
(21)
Instrumentace
ICP/MS
ICP/MS/MS
(28)
Software
(1)
Speciační analýza
(7)
ICP/MS
Výrobce
Agilent Technologies
CEM
(5)
ELGA LabWater
(1)
GERSTEL
(1)
Agilent Technologies
Autor
Agilent Technologies
(70)
GERSTEL
(1)
Typ Publikace
Aplikace
Brožury a specifikace
(8)
Manuály
(5)
Ostatní
(27)
Aplikace
Rok vydání
Aplikace se zaměřením na ICP/MS | LabRulez ICPMS
Ultra trace measurement of potassium and other elements in ultrapure water using the Agilent 8800 ICP-QQQ in cool plasma reaction cell mode
Aplikace
| 2014 | Agilent Technologies
ICP/MS, ICP/MS/MS
Instrumentace
ICP/MS, ICP/MS/MS
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Polovodiče
Direct Analysis of Trace Metallic Impurities in High Purity Hydrochloric Acid by 7700s/7900 ICP-MS
Aplikace
| 2017 | Agilent Technologies
ICP/MS
Instrumentace
ICP/MS
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Průmysl a chemie
Analysis of Trace Metal Impurities in High Purity Hydrochloric Acid Using ICP-QQQ
Aplikace
| 2017 | Agilent Technologies
ICP/MS, ICP/MS/MS
Instrumentace
ICP/MS, ICP/MS/MS
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Polovodiče
Improvement of ICP-MS detectability of phosphorus and titanium in high purity silicon samples using the Agilent 8800 Triple Quadrupole ICP-MS
Aplikace
| 2013 | Agilent Technologies
ICP/MS, ICP/MS/MS
Instrumentace
ICP/MS, ICP/MS/MS
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Polovodiče
Direct Measurement of Metallic Impurities in 20% Ammonium Hydroxide by 7700s/7900 ICP-MS
Aplikace
| 2017 | Agilent Technologies
ICP/MS
Instrumentace
ICP/MS
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Polovodiče
Determination of ultra trace elements in high purity hydrogen peroxide with Agilent 8900 ICP-QQQ
Aplikace
| 2016 | Agilent Technologies
ICP/MS, ICP/MS/MS
Instrumentace
ICP/MS, ICP/MS/MS
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Polovodiče
Direct Analysis of Trace Metal Impurities in High Purity Nitric Acid Using ICP-QQQ
Aplikace
| 2018 | Agilent Technologies
ICP/MS, ICP/MS/MS
Instrumentace
ICP/MS, ICP/MS/MS
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Polovodiče
Automated Analysis of Semiconductor Grade Hydrogen Peroxide and DI Water using ICP-QQQ
Aplikace
| 2018 | Agilent Technologies
ICP/MS, ICP/MS/MS
Instrumentace
ICP/MS, ICP/MS/MS
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Polovodiče
Determination of Trace Metal Impurities in Semiconductor Grade Phosphoric Acid by High Sensitivity Reaction Cell ICP-MS
Aplikace
| 2003 | Agilent Technologies
ICP/MS
Instrumentace
ICP/MS
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Polovodiče
Determination of trace elements in ultrapure semiconductor grade sulfuric acid using the Agilent 8900 ICP-QQQ in MS/MS mode
Aplikace
| 2018 | Agilent Technologies
ICP/MS, ICP/MS/MS
Instrumentace
ICP/MS, ICP/MS/MS
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Polovodiče
Před
1
2
...
Další
Mohlo by Vás zajímat
LABOREXPO & PROCESEXPO 2024 (doprovodný odborný program)
Čt, 16.5.2024
LabRulez
SHIMADZU: Pololetní události – Příležitosti k setkání s Vámi
St, 15.5.2024
SHIMADZU Handels GmbH - organizační složka
Přednáška LABOREXPO 2024: Analýza rozličných látek v kultivačním médiu
Út, 28.5.2024
LabRulez
Další projekty
Sledujte nás
Další informace
Webináře
O nás
Kontaktujte nás
Podmínky užití
LabRulez s.r.o. Všechna práva vyhrazena. Obsah dostupný pod licencí CC BY-SA 4.0 Uveďte původ-Zachovejte licenci.