ICPMS
Další informace
WebinářeO násKontaktujte násPodmínky užití
LabRulez s.r.o. Všechna práva vyhrazena. Obsah dostupný pod licencí CC BY-SA 4.0 Uveďte původ-Zachovejte licenci.
    1. Databáze

    1. Zaměření

    1. Instrumentace

    1. Výrobce

    1. Autor

    1. Typ Publikace

    1. Rok vydání

    Aplikace se zaměřením na ICP/MS | LabRulez ICPMS

    Removal of hydride ion interferences (MH+ ) on Rare Earth Elements using the Agilent 8800 Triple Quadrupole ICP-MS

    Aplikace
    | 2012 | Agilent Technologies
    ICP/MS, ICP/MS/MS
    Instrumentace
    ICP/MS, ICP/MS/MS
    Výrobce
    Agilent Technologies
    Zaměření
    Životní prostředí

    Ultra-low level determination of phosphorus, sulfur, silicon and chlorine using the Agilent 8900 ICP-QQQ

    Aplikace
    | 2018 | Agilent Technologies
    ICP/MS, ICP/MS/MS
    Instrumentace
    ICP/MS, ICP/MS/MS
    Výrobce
    Agilent Technologies
    Zaměření
    Polovodiče

    Handbook of ICP-QQQ Applications using the Agilent 8800 and 8900

    Příručky
    | 2022 | Agilent Technologies
    GC, HPLC, ICP/MS, Speciační analýza, ICP/MS/MS
    Instrumentace
    GC, HPLC, ICP/MS, Speciační analýza, ICP/MS/MS
    Výrobce
    Agilent Technologies, Elemental Scientific
    Zaměření
    Životní prostředí, Potraviny a zemědělství, Průmysl a chemie, Farmaceutická analýza, Materiálová analýza, Polovodiče, Klinická analýza

    Determination of challenging elements in ultrapure semiconductor grade sulfuric acid by Triple Quadrupole ICP-MS

    Aplikace
    | 2015 | Agilent Technologies
    ICP/MS, ICP/MS/MS
    Instrumentace
    ICP/MS, ICP/MS/MS
    Výrobce
    Agilent Technologies
    Zaměření
    Polovodiče

    Characterization of Surface Metal Contamination on Silicon Wafers Using Surface Metal Extraction Inductively Coupled Plasma Mass Spectrometry (SME- ICP-MS)

    Aplikace
    | 2001 | Agilent Technologies
    ICP/MS
    Instrumentace
    ICP/MS
    Výrobce
    Agilent Technologies
    Zaměření
    Polovodiče

    Trace level analysis of sulfur, phosphorus, silicon and chlorine in NMP using the Agilent 8800 Triple Quadrupole ICP-MS

    Aplikace
    | 2013 | Agilent Technologies
    ICP/MS, ICP/MS/MS
    Instrumentace
    ICP/MS, ICP/MS/MS
    Výrobce
    Agilent Technologies
    Zaměření
    Farmaceutická analýza

    Determination of ultra trace elements in high purity hydrogen peroxide with Agilent 8900 ICP-QQQ

    Aplikace
    | 2016 | Agilent Technologies
    ICP/MS, ICP/MS/MS
    Instrumentace
    ICP/MS, ICP/MS/MS
    Výrobce
    Agilent Technologies
    Zaměření
    Polovodiče

    Rapid and Reliable Routine Analysis of Urine by Octopole Reaction Cell ICP-MS

    Aplikace
    | 2005 | Agilent Technologies
    ICP/MS
    Instrumentace
    ICP/MS
    Výrobce
    Agilent Technologies
    Zaměření
    Klinická analýza

    Sborník příspěvků XXIII. ročník Mezinárodní konference o separační chemii a analýze toxických látek

    Příručky
    | 2021 | Hasičský záchranný sbor ČR (Mezinárodní konference o separační chemii a analýze toxických látek)
    GC/MSD, Termální desorpce, GC/SQ, ICP/MS, ICP/OES, AAS
    Instrumentace
    GC/MSD, Termální desorpce, GC/SQ, ICP/MS, ICP/OES, AAS
    Výrobce
    Agilent Technologies
    Zaměření
    Životní prostředí, Forenzní analýza a toxikologie, Nebezpečné látky

    Agilent ICP-MS Journal (July 2018. Issue 73)

    Ostatní
    | 2018 | Agilent Technologies
    ICP/MS, ICP/MS/MS
    Instrumentace
    ICP/MS, ICP/MS/MS
    Výrobce
    Agilent Technologies
    Zaměření
     

    Mohlo by Vás zajímat


    LABOREXPO & PROCESEXPO 2024 (doprovodný odborný program)

    Čt, 16.5.2024
    LabRulez

    SHIMADZU: Pololetní události – Příležitosti k setkání s Vámi

    St, 15.5.2024
    SHIMADZU Handels GmbH - organizační složka

    Odešli tři držitelé čestných doktorátů Univerzity Pardubice

    Út, 28.5.2024
    Univerzita Pardubice
    Další projekty
    Sledujte nás
    Další informace
    WebinářeO násKontaktujte násPodmínky užití
    LabRulez s.r.o. Všechna práva vyhrazena. Obsah dostupný pod licencí CC BY-SA 4.0 Uveďte původ-Zachovejte licenci.