Rozcestník
Novinky
Novinky
Nejbližší akce
Akademie - již brzy
Knihovna
ICPMS
GCMS
LCMS
Webináře
Webináře
Produkty
Přístroje a služby
Bazar
Společnosti
Komerční
Nekomerční
Mediální
Kariéra
Nabídky práce
Další informace
Webináře
O nás
Kontaktujte nás
Podmínky užití
LabRulez s.r.o. Všechna práva vyhrazena. Obsah dostupný pod licencí CC BY-SA 4.0 Uveďte původ-Zachovejte licenci.
Novinky
Knihovna
Webináře
Produkty
Společnosti
Kariéra
Novinky
Nejbližší akce
Akademie - již brzy
ICPMS
GCMS
LCMS
Webináře
Přístroje a služby
Bazar
Komerční
Nekomerční
Mediální
Nabídky práce
Databáze
ICPMS
GCMS
LCMS
Zaměření
Farmaceutická analýza
(2)
Forenzní analýza a toxikologie
(1)
Klinická analýza
(4)
Materiálová analýza
(1)
Instrumentace
AAS
(3)
Fluorescenční spektroskopie
(1)
ICP/MS
ICP/MS/MS
(18)
ICP/MS
Výrobce
Agilent Technologies
(41)
Elemental Scientific
(2)
Metrohm
(1)
PerkinElmer
(1)
Autor
Agilent Technologies
(40)
RAFA
(1)
Savillex
(3)
Shimadzu
(4)
Typ Publikace
Aplikace
(13)
Brožury a specifikace
(1)
Ostatní
(10)
Postery
(3)
Rok vydání
Aplikace se zaměřením na ICP/MS | LabRulez ICPMS
ENHANCED HELIUM MODE CELL PERFORMANCE FOR IMPROVED INTERFERENCE REMOVAL IN ICP-MS
Ostatní
| 2015 | Agilent Technologies
ICP/MS
Instrumentace
ICP/MS
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
WCPS: Enhancing Helium Mode Performance to Provide Improved Detection Limits for Difficult Elements Including S, P, Fe, and Se
Postery
| 2011 | Agilent Technologies
ICP/MS
Instrumentace
ICP/MS
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Potraviny a zemědělství
Direct Analysis of Trace Metallic Impurities in High Purity Hydrochloric Acid by 7700s/7900 ICP-MS
Aplikace
| 2017 | Agilent Technologies
ICP/MS
Instrumentace
ICP/MS
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Průmysl a chemie
Basic Performance of the Agilent 7700s ICP-MS for the Analysis of Semiconductor Samples
Technické články
| 2010 | Agilent Technologies
ICP/MS
Instrumentace
ICP/MS
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Polovodiče
PLASMA ROBUSTNESS IN ICP-MS BENEFITS OF A LOW CeO/Ce RATIO
Ostatní
| 2015 | Agilent Technologies
ICP/MS
Instrumentace
ICP/MS
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Plasma Robustness and Matrix Tolerance
Technické články
| 2020 | Agilent Technologies
ICP/MS
Instrumentace
ICP/MS
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Technical Overview and Performance Capability of the Agilent 7900s ICP-MS for Semiconductor Applications
Technické články
| 2020 | Agilent Technologies
ICP/MS
Instrumentace
ICP/MS
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Polovodiče
Agilent ICP-MS Journal (May 2022, Issue 88)
Ostatní
| 2022 | Agilent Technologies
ICP/MS, ICP/MS/MS, Laserová ablace
Instrumentace
ICP/MS, ICP/MS/MS, Laserová ablace
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Ultra-Trace Analysis of Organophosphorus Chemical Warfare Agent Degradation Products by HPLC-ICP-MS
Aplikace
| 2006 | Agilent Technologies
HPLC, ICP/MS, Speciační analýza
Instrumentace
HPLC, ICP/MS, Speciační analýza
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Nebezpečné látky
MULTIMODAL IMAGING OF PHOTOSENSITIZERS IN 3D TUMOR CELL MODELS
Aplikace
| 2018 | Shimadzu
ICP/MS, Laserová ablace
Instrumentace
ICP/MS, Laserová ablace
Výrobce
Shimadzu, Tekmar Teledyne
Zaměření
Klinická analýza
Před
1
2
...
Další
Mohlo by Vás zajímat
Představení nového ICP‑MS 7900: jedinečná technologie a výkon
Út, 28.5.2024
Altium International
Najděte svou vysněnou práci v analytické chemii s LabRulez KARIÉRA!
Ne, 26.5.2024
LabRulez
LABOREXPO & PROCESEXPO 2024 (doprovodný odborný program)
Čt, 16.5.2024
LabRulez
Další projekty
Sledujte nás
Další informace
Webináře
O nás
Kontaktujte nás
Podmínky užití
LabRulez s.r.o. Všechna práva vyhrazena. Obsah dostupný pod licencí CC BY-SA 4.0 Uveďte původ-Zachovejte licenci.