Automated Surface Analysis of Metal Contaminants in Silicon Wafers by Online VPD-ICP-MS/MS
Aplikace
| 2023 | Agilent Technologies
ICP/MS, ICP/MS/MS
Instrumentace
ICP/MS, ICP/MS/MS
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Polovodiče
Characterization of Surface Metal Contamination on Silicon Wafers Using Surface Metal Extraction Inductively Coupled Plasma Mass Spectrometry (SME- ICP-MS)
Aplikace
| 2001 | Agilent Technologies
ICP/MS
Instrumentace
ICP/MS
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Polovodiče
PFA Inert Kit for PerkinElmer NexION 300 Series ICP-MS
Technické články
| 2017 | Savillex
Spotřební materiál, ICP/MS
Instrumentace
Spotřební materiál, ICP/MS
Výrobce
PerkinElmer, Savillex
Zaměření
PFA Inert Kit Compatible with Agilent ICP-MS
Technické články
| 2019 | Savillex
Spotřební materiál, ICP/MS
Instrumentace
Spotřební materiál, ICP/MS
Výrobce
Agilent Technologies, Savillex
Zaměření
PFA Inert Kit for Thermo Element2/Neptune
Technické články
| 2017 | Savillex
Spotřební materiál, ICP/MS
Instrumentace
Spotřební materiál, ICP/MS
Výrobce
Thermo Fisher Scientific, Savillex
Zaměření
Direct Analysis of Metallic Impurities in SiC and GaN Wafers by LA-GED-MSAG-ICP-MS/MS
Aplikace
| 2023 | Agilent Technologies
ICP/MS, ICP/MS/MS, Laserová ablace
Instrumentace
ICP/MS, ICP/MS/MS, Laserová ablace
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Polovodiče
Improvement of ICP-MS detectability of phosphorus and titanium in high purity silicon samples using the Agilent 8800 Triple Quadrupole ICP-MS