ICPMS
Další informace
WebinářeO násKontaktujte násPodmínky užití
LabRulez s.r.o. Všechna práva vyhrazena. Obsah dostupný pod licencí CC BY-SA 4.0 Uveďte původ-Zachovejte licenci.
    1. Databáze

    1. Zaměření

    1. Instrumentace

    1. Výrobce

    1. Autor

    1. Typ Publikace

    1. Rok vydání

    Aplikace se zaměřením na ICP/MS | LabRulez ICPMS

    Characterization of Trace Impurities in Silicon Wafers by High Sensitivity Reaction Cell ICP-MS

    Aplikace
    | 2003 | Agilent Technologies
    ICP/MS
    Instrumentace
    ICP/MS
    Výrobce
    Agilent Technologies
    Zaměření
    Polovodiče

    A Comparison of the Relative Cost and Productivity of Traditional Metals Analysis Techniques Versus ICP-MS in High Throughput Commercial Laboratories

    Technické články
    | 2005 | Agilent Technologies
    ICP/MS
    Instrumentace
    ICP/MS
    Výrobce
    Agilent Technologies
    Zaměření

    Accurate Analysis of Trace Mercury in Cosmetics using the Agilent 8900 ICP-QQQ

    Aplikace
    | 2019 | Agilent Technologies
    ICP/MS, ICP/MS/MS
    Instrumentace
    ICP/MS, ICP/MS/MS
    Výrobce
    Agilent Technologies
    Zaměření
    Ostatní

    Characterization of Surface Metal Contamination on Silicon Wafers Using Surface Metal Extraction Inductively Coupled Plasma Mass Spectrometry (SME- ICP-MS)

    Aplikace
    | 2001 | Agilent Technologies
    ICP/MS
    Instrumentace
    ICP/MS
    Výrobce
    Agilent Technologies
    Zaměření
    Polovodiče

    Analysis of TiO2 Nanoparticles in Foods and Personal Care Products by Single Particle ICP-QQQ

    Aplikace
    | 2019 | Agilent Technologies
    ICP/MS, ICP/MS/MS
    Instrumentace
    ICP/MS, ICP/MS/MS
    Výrobce
    Agilent Technologies
    Zaměření
    Potraviny a zemědělství, Ostatní

    Plasma Robustness and Matrix Tolerance

    Technické články
    | 2020 | Agilent Technologies
    ICP/MS
    Instrumentace
    ICP/MS
    Výrobce
    Agilent Technologies
    Zaměření

    The accurate measurement of selenium in twelve diverse reference materials using on-line isotope dilution with the 8800 Triple Quadrupole ICP-MS in MS/MS mode

    Aplikace
    | 2012 | Agilent Technologies
    ICP/MS, ICP/MS/MS
    Instrumentace
    ICP/MS, ICP/MS/MS
    Výrobce
    Agilent Technologies
    Zaměření
    Životní prostředí

    RESEARCHER USES AGILENT INSTRUMENTS TO CREATE MORE EFFECTIVE ANALYTICAL METHODS

    Ostatní
    | 2016 | Agilent Technologies
    ICP/MS, ICP/MS/MS
    Instrumentace
    ICP/MS, ICP/MS/MS
    Výrobce
    Agilent Technologies
    Zaměření

    ORS4 AND HELIUM MODE FOR MORE EFFECTIVE INTERFERENCE REMOVAL IN COMPLEX SAMPLES

    Ostatní
    | 2015 | Agilent Technologies
    ICP/MS
    Instrumentace
    ICP/MS
    Výrobce
    Agilent Technologies
    Zaměření

    Analysis of 50 nm Silica Nanoparticles in Semiconductor Process Chemicals by spICP-MS/MS

    Aplikace
    | 2023 | Agilent Technologies
    ICP/MS, ICP/MS/MS
    Instrumentace
    ICP/MS, ICP/MS/MS
    Výrobce
    Agilent Technologies
    Zaměření
    Polovodiče
     

    Mohlo by Vás zajímat


    LABOREXPO & PROCESEXPO 2024 (doprovodný odborný program)

    Čt, 16.5.2024
    LabRulez

    SHIMADZU: Pololetní události – Příležitosti k setkání s Vámi

    St, 15.5.2024
    SHIMADZU Handels GmbH - organizační složka

    Představení nového ICP‑MS 7900: jedinečná technologie a výkon

    Út, 28.5.2024
    Altium International
    Další projekty
    Sledujte nás
    Další informace
    WebinářeO násKontaktujte násPodmínky užití
    LabRulez s.r.o. Všechna práva vyhrazena. Obsah dostupný pod licencí CC BY-SA 4.0 Uveďte původ-Zachovejte licenci.