ICPMS
Další informace
WebinářeO násKontaktujte násPodmínky užití
LabRulez s.r.o. Všechna práva vyhrazena. Obsah dostupný pod licencí CC BY-SA 4.0 Uveďte původ-Zachovejte licenci.
    1. Databáze

    1. Zaměření

    1. Instrumentace

    1. Výrobce

    1. Autor

    1. Typ Publikace

    1. Rok vydání

    Aplikace se zaměřením na ICP/MS/MS | LabRulez ICPMS

    Using ICP-QQQ for UO2 + product ion measurement to reduce uranium hydride ion interference and enable trace 236U isotopic analysis

    Aplikace
    | 2016 | Agilent Technologies
    ICP/MS, ICP/MS/MS
    Instrumentace
    ICP/MS, ICP/MS/MS
    Výrobce
    Agilent Technologies
    Zaměření
    Životní prostředí, Průmysl a chemie

    Analysis of Metallic Impurities in Specialty Semiconductor Gases Using Gas Exchange Device (GED)-ICP-MS

    Aplikace
    | 2022 | Agilent Technologies
    ICP/MS, ICP/MS/MS
    Instrumentace
    ICP/MS, ICP/MS/MS
    Výrobce
    Agilent Technologies
    Zaměření
    Polovodiče

    Multielement Nanoparticle Analysis of Semiconductor Process Chemicals Using spICP-QQQ

    Aplikace
    | 2019 | Agilent Technologies
    ICP/MS, ICP/MS/MS
    Instrumentace
    ICP/MS, ICP/MS/MS
    Výrobce
    Agilent Technologies
    Zaměření
    Polovodiče

    Direct Analysis of Zirconium-93 in Nuclear Site Decommissioning Samples by ICP-QQQ

    Aplikace
    | 2020 | Agilent Technologies
    ICP/MS, ICP/MS/MS
    Instrumentace
    ICP/MS, ICP/MS/MS
    Výrobce
    Agilent Technologies
    Zaměření
    Životní prostředí

    WCPS: Inorganic Mass Spectrometry Analysis of Single Cell Protein Quantification; A Road Map

    Postery
    | 2018 | Agilent Technologies
    ICP/MS, ICP/MS/MS, Laserová ablace
    Instrumentace
    ICP/MS, ICP/MS/MS, Laserová ablace
    Výrobce
    Agilent Technologies
    Zaměření
    Proteomika, Klinická analýza

    Direct Analysis of Metallic Impurities in SiC and GaN Wafers by LA-GED-MSAG-ICP-MS/MS

    Aplikace
    | 2023 | Agilent Technologies
    ICP/MS, ICP/MS/MS, Laserová ablace
    Instrumentace
    ICP/MS, ICP/MS/MS, Laserová ablace
    Výrobce
    Agilent Technologies
    Zaměření
    Polovodiče

    Agilent ICP-MS Journal (May 2014 – Issue 57)

    Ostatní
    | 2014 | Agilent Technologies
    ICP/MS, ICP/MS/MS
    Instrumentace
    ICP/MS, ICP/MS/MS
    Výrobce
    Agilent Technologies
    Zaměření
    Potraviny a zemědělství, Proteomika

    Trust Proven MS/MS Technology

    Ostatní
    | 2018 | Agilent Technologies
    ICP/MS, ICP/MS/MS
    Instrumentace
    ICP/MS, ICP/MS/MS
    Výrobce
    Agilent Technologies
    Zaměření

    Agilent ICP-MS Journal (May 2023, Issue 92)

    Ostatní
    | 2023 | Agilent Technologies
    ICP/MS, ICP/MS/MS, Laserová ablace
    Instrumentace
    ICP/MS, ICP/MS/MS, Laserová ablace
    Výrobce
    Agilent Technologies
    Zaměření

    WCPS: Direct Metal Analysis by New Galvano-Mirror fs-LA-ICP-MS using 100%-Normalization Method with NIST 612 Glass CRM as Calibration Standard

    Postery
    | 2023 | Agilent Technologies
    ICP/MS, ICP/MS/MS, Laserová ablace
    Instrumentace
    ICP/MS, ICP/MS/MS, Laserová ablace
    Výrobce
    Agilent Technologies
    Zaměření
     

    Mohlo by Vás zajímat


    Představení nového ICP‑MS 7900: jedinečná technologie a výkon

    Út, 28.5.2024
    Altium International

    Najděte svou vysněnou práci v analytické chemii s LabRulez KARIÉRA!

    Ne, 26.5.2024
    LabRulez

    Podcast CHEmic #30 – Objeví se tropické nemoci i v Česku? Lék na ně hledá Evžen Bouřa z ÚOCHB

    Čt, 6.6.2024
    Ústav organické chemie a biochemie AV ČR
    Další projekty
    Sledujte nás
    Další informace
    WebinářeO násKontaktujte násPodmínky užití
    LabRulez s.r.o. Všechna práva vyhrazena. Obsah dostupný pod licencí CC BY-SA 4.0 Uveďte původ-Zachovejte licenci.