ICPMS
Rozcestník
Další informace
WebinářeO násKontaktujte násPodmínky užití
LabRulez s.r.o. Všechna práva vyhrazena. Obsah dostupný pod licencí CC BY-SA 4.0 Uveďte původ-Zachovejte licenci.
Language English

    1. Databáze

    1. Zaměření

    1. Instrumentace

    1. Výrobce

    1. Autor

    1. Typ Publikace

    1. Rok vydání

    Aplikace se zaměřením na ICP/MS/MS | LabRulez ICPMS

    Ultra High Matrix Introduction (UHMI)

    Technické články
    | 2021 | Agilent Technologies
    ICP/MS, ICP/MS/MS
    Instrumentace
    ICP/MS, ICP/MS/MS
    Výrobce
    Agilent Technologies
    Zaměření

    WCPS: Determination of ultra-trace level impurities in high-purity metal samples by ICP-QQQ

    Postery
    | 2017 | Agilent Technologies
    ICP/MS, ICP/MS/MS
    Instrumentace
    ICP/MS, ICP/MS/MS
    Výrobce
    Agilent Technologies
    Zaměření
    Materiálová analýza

    WCPS: Particle Analysis of Two High Purity Grades of N-Methyl-2- Pyrrolidone (NMP) using Single Particle (sp)ICP-MS/MS Method

    Postery
    | 2023 | Agilent Technologies
    ICP/MS, ICP/MS/MS
    Instrumentace
    ICP/MS, ICP/MS/MS
    Výrobce
    Agilent Technologies
    Zaměření
    Průmysl a chemie, Polovodiče

    WCPS: Efficient Removal of Polyatomic Ions by ICP-MS Equipped with Novel Reaction Cell: Examples of Highly Purified Chemicals Used for Semiconductor

    Postery
    | 2012 | Agilent Technologies
    ICP/MS, ICP/MS/MS
    Instrumentace
    ICP/MS, ICP/MS/MS
    Výrobce
    Agilent Technologies
    Zaměření
    Polovodiče

    Ultra-low level determination of phosphorus, sulfur, silicon and chlorine using the Agilent 8900 ICP-QQQ

    Aplikace
    | 2018 | Agilent Technologies
    ICP/MS, ICP/MS/MS
    Instrumentace
    ICP/MS, ICP/MS/MS
    Výrobce
    Agilent Technologies
    Zaměření
    Polovodiče

    Using ICP-MS/MS with M-Lens for the analysis of high silicon matrix samples

    Postery
    | 2020 | Agilent Technologies (ASMS)
    ICP/MS, ICP/MS/MS
    Instrumentace
    ICP/MS, ICP/MS/MS
    Výrobce
    Agilent Technologies
    Zaměření
    Polovodiče

    WCPS: Direct Metal Analysis by New Galvano-Mirror fs-LA-ICP-MS using 100%-Normalization Method with NIST 612 Glass CRM as Calibration Standard

    Postery
    | 2023 | Agilent Technologies
    ICP/MS, ICP/MS/MS, Laserová ablace
    Instrumentace
    ICP/MS, ICP/MS/MS, Laserová ablace
    Výrobce
    Agilent Technologies
    Zaměření

    ANALYSIS OF PROPYLENE IMPURITIES USING SELECT LOW SULFUR COLUMN AND SINGLE TUNE WITH GC-ICP-MS QQQ ORS

    Ostatní
    | 2016 | Agilent Technologies
    GC, ICP/MS, Speciační analýza, ICP/MS/MS
    Instrumentace
    GC, ICP/MS, Speciační analýza, ICP/MS/MS
    Výrobce
    Agilent Technologies
    Zaměření
    Průmysl a chemie

    Sub-ppb detection limits for hydride gas contaminants using GC-ICP-QQQ

    Aplikace
    | 2015 | Agilent Technologies
    GC, Speciační analýza, ICP/MS/MS
    Instrumentace
    GC, Speciační analýza, ICP/MS/MS
    Výrobce
    Agilent Technologies
    Zaměření
    Průmysl a chemie, Polovodiče

    Direct Analysis of Trace Metal Impurities in High Purity Nitric Acid Using ICP-QQQ

    Aplikace
    | 2018 | Agilent Technologies
    ICP/MS, ICP/MS/MS
    Instrumentace
    ICP/MS, ICP/MS/MS
    Výrobce
    Agilent Technologies
    Zaměření
    Polovodiče
     

    Mohlo by Vás zajímat

    ‌

    Nový systém čištění vody ELGA Purelab Flex

    St, 8.5.2024
    Česká voda – MEMSEP, a.s.
    ‌

    FACT …to funguje (Agilent ICP-OES)

    Út, 7.5.2024
    Altium International
    ‌

    LABOREXPO & PROCESEXPO 2024 (doprovodný odborný program)

    Čt, 16.5.2024
    LabRulez
    ‌
    Další projekty
    Sledujte nás
    Další informace
    WebinářeO násKontaktujte násPodmínky užití
    LabRulez s.r.o. Všechna práva vyhrazena. Obsah dostupný pod licencí CC BY-SA 4.0 Uveďte původ-Zachovejte licenci.