Rozcestník
Další informace
WebinářeO násKontaktujte násPodmínky užití
LabRulez s.r.o. Všechna práva vyhrazena. Obsah dostupný pod licencí CC BY-SA 4.0 Uveďte původ-Zachovejte licenci.
Aplikace od Agilent Technologies | LabRulez ICPMS
A comparison of two physical light blocking agents for sunscreen lotions
Aplikace
| 2011 | Agilent Technologies
UV–VIS Spektrofotometrie
Instrumentace
UV–VIS Spektrofotometrie
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Ostatní
Quantitative analysis of tint in polymer pellets and disks
Aplikace
| 2011 | Agilent Technologies
UV–VIS Spektrofotometrie
Instrumentace
UV–VIS Spektrofotometrie
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Materiálová analýza
Elemental profiling of Malbec Wines for geographical origin using an Agilent 4200 MP-AES
Aplikace
| 2015 | Agilent Technologies
MP/ICP-AES
Instrumentace
MP/ICP-AES
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Potraviny a zemědělství
Measuring diffuse refl ectance of solid samples with the Agilent Cary 60 UV-Vis
Aplikace
| 2012 | Agilent Technologies
UV–VIS Spektrofotometrie
Instrumentace
UV–VIS Spektrofotometrie
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Materiálová analýza
Determination of trace amounts of Mercury (II) by Total Fluorescence Quenching using 1,10-phenanthroline and eosin
Aplikace
| 2012 | Agilent Technologies
NIR Spektroskopie, UV–VIS Spektrofotometrie
Instrumentace
NIR Spektroskopie, UV–VIS Spektrofotometrie
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Životní prostředí
ANALYSIS OF EXTRACTABLE AND LEACHABLE METALS IN PLASTIC MATERIALS OF CONSTRUCTION AS PER USP <661.1> ACID EXTRACTION PROCEDURE USING THE AGILENT 5110 VDV ICP-OES
Aplikace
| 2016 | Agilent Technologies
LC/Orbitrap, ICP/OES
Instrumentace
LC/Orbitrap, ICP/OES
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Materiálová analýza
Sub-ppb detection limits for hydride gas contaminants using GC-ICP-QQQ
Aplikace
| 2015 | Agilent Technologies
GC, Speciační analýza, ICP/MS/MS
Instrumentace
GC, Speciační analýza, ICP/MS/MS
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Průmysl a chemie, Polovodiče
Determination of Trace Impurities in High-Purity Copper by Sequential ICP-OES with Axial Viewing
Aplikace
| 2010 | Agilent Technologies
ICP/OES
Instrumentace
ICP/OES
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Průmysl a chemie
Mohlo by Vás zajímat
Další informace
WebinářeO násKontaktujte násPodmínky užití
LabRulez s.r.o. Všechna práva vyhrazena. Obsah dostupný pod licencí CC BY-SA 4.0 Uveďte původ-Zachovejte licenci.