Spectrophotometric Spatial Profiling of Coated Optical Wafers
Aplikace
| 2020 | Agilent Technologies
NIR Spektroskopie, UV–VIS Spektrofotometrie
Instrumentace
NIR Spektroskopie, UV–VIS Spektrofotometrie
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Materiálová analýza
Direct Analysis of Metallic Impurities in SiC and GaN Wafers by LA-GED-MSAG-ICP-MS/MS
Aplikace
| 2023 | Agilent Technologies
ICP/MS, ICP/MS/MS, Laserová ablace
Instrumentace
ICP/MS, ICP/MS/MS, Laserová ablace
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Polovodiče
Automated Surface Analysis of Metal Contaminants in Silicon Wafers by Online VPD-ICP-MS/MS
Aplikace
| 2023 | Agilent Technologies
ICP/MS, ICP/MS/MS
Instrumentace
ICP/MS, ICP/MS/MS
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Polovodiče
Coated Wafer Mapping Using UV-Vis Spectral Reflection and Transmission Measurements
Aplikace
| 2020 | Agilent Technologies
NIR Spektroskopie, UV–VIS Spektrofotometrie
Instrumentace
NIR Spektroskopie, UV–VIS Spektrofotometrie
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Materiálová analýza, Polovodiče
Characterization of Surface Metal Contamination on Silicon Wafers Using Surface Metal Extraction Inductively Coupled Plasma Mass Spectrometry (SME- ICP-MS)
Aplikace
| 2001 | Agilent Technologies
ICP/MS
Instrumentace
ICP/MS
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Polovodiče
Characterization of Trace Impurities in Silicon Wafers by High Sensitivity Reaction Cell ICP-MS
Aplikace
| 2003 | Agilent Technologies
ICP/MS
Instrumentace
ICP/MS
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Polovodiče
Automated Analysis of Semiconductor Grade Hydrogen Peroxide and DI Water using ICP-QQQ
Aplikace
| 2018 | Agilent Technologies
ICP/MS, ICP/MS/MS
Instrumentace
ICP/MS, ICP/MS/MS
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Polovodiče
Investigating the Angular Dependence of Absolute Specular Reflection
Aplikace
| 2022 | Agilent Technologies
NIR Spektroskopie, UV–VIS Spektrofotometrie
Instrumentace
NIR Spektroskopie, UV–VIS Spektrofotometrie
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Materiálová analýza
The deep ultraviolet spectroscopic properties of a next-generation photoresist
Aplikace
| 2011 | Agilent Technologies
UV–VIS Spektrofotometrie
Instrumentace
UV–VIS Spektrofotometrie
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Materiálová analýza, Polovodiče
Improvement of ICP-MS detectability of phosphorus and titanium in high purity silicon samples using the Agilent 8800 Triple Quadrupole ICP-MS