ICPMS
Další informace
WebinářeO násKontaktujte násPodmínky užití
LabRulez s.r.o. Všechna práva vyhrazena. Obsah dostupný pod licencí CC BY-SA 4.0 Uveďte původ-Zachovejte licenci.
    1. Databáze

    1. Zaměření

    1. Instrumentace

    1. Výrobce

    1. Autor

    1. Typ Publikace

    1. Rok vydání

    Aplikace od Agilent Technologies | LabRulez ICPMS

    WCPS: Determination of Ultra Trace Elements in High Purity Reagents by Automatic Standard Addition Methods Using prepFAST S - ICP-MS/MS

    Postery
    | 2018 | Agilent Technologies
    Příprava vzorků, ICP/MS, ICP/MS/MS
    Instrumentace
    Příprava vzorků, ICP/MS, ICP/MS/MS
    Výrobce
    Agilent Technologies, Elemental Scientific
    Zaměření
    Průmysl a chemie, Polovodiče

    Measuring Inorganic Impurities in Semiconductor Manufacturing

    Příručky
    | 2022 | Agilent Technologies
    GC, ICP/MS, Speciační analýza, ICP/MS/MS
    Instrumentace
    GC, ICP/MS, Speciační analýza, ICP/MS/MS
    Výrobce
    Agilent Technologies
    Zaměření
    Polovodiče

    Direct analysis of milk using the Agilent 4100 Microwave Plasma-Atomic Emission Spectrometer (MP-AES)

    Aplikace
    | 2013 | Agilent Technologies
    MP/ICP-AES
    Instrumentace
    MP/ICP-AES
    Výrobce
    Agilent Technologies
    Zaměření
    Potraviny a zemědělství

    Ultrapure Process Chemicals Analysis by ICP-QQQ with Hot Plasma Conditions

    Aplikace
    | 2021 | Agilent Technologies
    ICP/MS, ICP/MS/MS
    Instrumentace
    ICP/MS, ICP/MS/MS
    Výrobce
    Agilent Technologies
    Zaměření
    Polovodiče

    Multi-elemental determination of gasoline using Agilent 5100 ICP-OES with oxygen injection and a temperature controlled spray chamber

    Aplikace
    | 2015 | Agilent Technologies
    ICP/OES
    Instrumentace
    ICP/OES
    Výrobce
    Agilent Technologies
    Zaměření
    Průmysl a chemie

    Elemental and Particle Analysis of N-Methyl-2-Pyrrolidone (NMP) by ICP-MS/MS

    Aplikace
    | 2022 | Agilent Technologies
    ICP/MS, ICP/MS/MS
    Instrumentace
    ICP/MS, ICP/MS/MS
    Výrobce
    Agilent Technologies
    Zaměření
    Polovodiče

    Direct Analysis of Metallic Impurities in SiC and GaN Wafers by LA-GED-MSAG-ICP-MS/MS

    Aplikace
    | 2023 | Agilent Technologies
    ICP/MS, ICP/MS/MS, Laserová ablace
    Instrumentace
    ICP/MS, ICP/MS/MS, Laserová ablace
    Výrobce
    Agilent Technologies
    Zaměření
    Polovodiče

    Determination of trace elements in ultrapure semiconductor grade sulfuric acid using the Agilent 8900 ICP-QQQ in MS/MS mode

    Aplikace
    | 2018 | Agilent Technologies
    ICP/MS, ICP/MS/MS
    Instrumentace
    ICP/MS, ICP/MS/MS
    Výrobce
    Agilent Technologies
    Zaměření
    Polovodiče

    Technical Overview and Performance Capability of the Agilent 7900s ICP-MS for Semiconductor Applications

    Technické články
    | 2020 | Agilent Technologies
    ICP/MS
    Instrumentace
    ICP/MS
    Výrobce
    Agilent Technologies
    Zaměření
    Polovodiče

    Agilent ICP-MS Journal (January 2013 – Issue 52)

    Ostatní
    | 2013 | Agilent Technologies
    Software, ICP/MS, Speciační analýza, ICP/MS/MS
    Instrumentace
    Software, ICP/MS, Speciační analýza, ICP/MS/MS
    Výrobce
    Agilent Technologies
    Zaměření
    Životní prostředí
     

    Mohlo by Vás zajímat


    FACT …to funguje (Agilent ICP-OES)

    Út, 7.5.2024
    Altium International

    Metrohm: Obchodní a aplikační specialista

    Ne, 5.5.2024
    Metrohm Česká republika

    Altium: Akční nabídka květen - srpen 2024

    Út, 14.5.2024
    Altium International
    Další projekty
    Sledujte nás
    Další informace
    WebinářeO násKontaktujte násPodmínky užití
    LabRulez s.r.o. Všechna práva vyhrazena. Obsah dostupný pod licencí CC BY-SA 4.0 Uveďte původ-Zachovejte licenci.