Rozcestník
Novinky
Novinky
Nejbližší akce
Akademie - již brzy
Knihovna
ICPMS
GCMS
LCMS
Webináře
Webináře
Produkty
Přístroje a služby
Bazar
Společnosti
Komerční
Nekomerční
Mediální
Kariéra
Nabídky práce
Další informace
Webináře
O nás
Kontaktujte nás
Podmínky užití
LabRulez s.r.o. Všechna práva vyhrazena. Obsah dostupný pod licencí CC BY-SA 4.0 Uveďte původ-Zachovejte licenci.
Novinky
Knihovna
Webináře
Produkty
Společnosti
Kariéra
Novinky
Nejbližší akce
Akademie - již brzy
ICPMS
GCMS
LCMS
Webináře
Přístroje a služby
Bazar
Komerční
Nekomerční
Mediální
Nabídky práce
Databáze
ICPMS
GCMS
LCMS
Zaměření
Farmaceutická analýza
(1)
Materiálová analýza
(2)
Polovodiče
(7)
Instrumentace
ICP/MS
(7)
ICP/MS/MS
(6)
UV–VIS Spektrofotometrie
(2)
Výrobce
Agilent Technologies
Agilent Technologies
Autor
Agilent Technologies
(9)
Typ Publikace
Aplikace
Brožury a specifikace
(1)
Ostatní
(3)
Příručky
(5)
Aplikace
Rok vydání
Aplikace | LabRulez ICPMS
Direct Analysis of Photoresist and Related Solvents Using the Agilent 7500cs ICP-MS
Aplikace
| 2004 | Agilent Technologies
ICP/MS
Instrumentace
ICP/MS
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Polovodiče
The deep ultraviolet spectroscopic properties of a next-generation photoresist
Aplikace
| 2011 | Agilent Technologies
UV–VIS Spektrofotometrie
Instrumentace
UV–VIS Spektrofotometrie
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Materiálová analýza, Polovodiče
Determination of Ultratrace Impurities in Semiconductor Photoresist Using ICP-MS/MS
Aplikace
| 2023 | Agilent Technologies
ICP/MS, ICP/MS/MS
Instrumentace
ICP/MS, ICP/MS/MS
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Polovodiče
Trace level analysis of sulfur, phosphorus, silicon and chlorine in NMP using the Agilent 8800 Triple Quadrupole ICP-MS
Aplikace
| 2013 | Agilent Technologies
ICP/MS, ICP/MS/MS
Instrumentace
ICP/MS, ICP/MS/MS
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Farmaceutická analýza
The determination of thin film thickness using reflectance spectroscopy
Aplikace
| 2011 | Agilent Technologies
UV–VIS Spektrofotometrie
Instrumentace
UV–VIS Spektrofotometrie
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Materiálová analýza
Multielement Nanoparticle Analysis of Semiconductor Process Chemicals Using spICP-QQQ
Aplikace
| 2019 | Agilent Technologies
ICP/MS, ICP/MS/MS
Instrumentace
ICP/MS, ICP/MS/MS
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Polovodiče
Determination of trace elements in ultrapure semiconductor grade sulfuric acid using the Agilent 8900 ICP-QQQ in MS/MS mode
Aplikace
| 2018 | Agilent Technologies
ICP/MS, ICP/MS/MS
Instrumentace
ICP/MS, ICP/MS/MS
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Polovodiče
Determination of ultra trace elements in high purity hydrogen peroxide with Agilent 8900 ICP-QQQ
Aplikace
| 2016 | Agilent Technologies
ICP/MS, ICP/MS/MS
Instrumentace
ICP/MS, ICP/MS/MS
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Polovodiče
Automated Analysis of Semiconductor Grade Hydrogen Peroxide and DI Water using ICP-QQQ
Aplikace
| 2018 | Agilent Technologies
ICP/MS, ICP/MS/MS
Instrumentace
ICP/MS, ICP/MS/MS
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Polovodiče
Před
1
Další
Mohlo by Vás zajímat
FACT …to funguje (Agilent ICP-OES)
Út, 7.5.2024
Altium International
Metrohm: Obchodní a aplikační specialista
Ne, 5.5.2024
Metrohm Česká republika
Konfigurátor roztoků ANALYTIKA – tvorba roztoku na míru
Po, 13.5.2024
ANALYTIKA
Další projekty
Sledujte nás
Další informace
Webináře
O nás
Kontaktujte nás
Podmínky užití
LabRulez s.r.o. Všechna práva vyhrazena. Obsah dostupný pod licencí CC BY-SA 4.0 Uveďte původ-Zachovejte licenci.