Rozcestník
Další informace
WebinářeO násKontaktujte násPodmínky užití
LabRulez s.r.o. Všechna práva vyhrazena. Obsah dostupný pod licencí CC BY-SA 4.0 Uveďte původ-Zachovejte licenci.
He kolizní mód s technogií kolizně-reakční cely Agilent ORS4
Technické články
| 2020 | Altium International (HPST) (Agilent Technologies)
ICP/MS
Instrumentace
ICP/MS
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Kovy vzácných zemin (REE) jako analyt nebo interferent při analýze pomocí ICPMS SQ vs. ICPMS QQQ
Prezentace
| 2022 | Altium International (HPST)
ICP/MS, ICP/MS/MS
Instrumentace
ICP/MS, ICP/MS/MS
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Determination of Ca, K, and Na in Soft Drinks Using MP-AES
Aplikace
| 2018 | Agilent Technologies
MP/ICP-AES
Instrumentace
MP/ICP-AES
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Potraviny a zemědělství
Aplikační výhody ICPMS QqQ
Prezentace
| 2022 | Altium International (HPST)
ICP/MS, ICP/MS/MS
Instrumentace
ICP/MS, ICP/MS/MS
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
HPST ChromAtoMol #3 - časopis nejen pro analytické laboratoře
Ostatní
| 2016 | Altium International (HPST)
GC/MSD, HeadSpace, Příprava vzorků, GC/SQ, Spotřební materiál, HPLC, LC/TOF, LC/HRMS, LC/MS, LC/MS/MS, LC kolony, Kapilární elektroforéza, ICP/MS, ICP/OES, ICP/MS/MS
Instrumentace
GC/MSD, HeadSpace, Příprava vzorků, GC/SQ, Spotřební materiál, HPLC, LC/TOF, LC/HRMS, LC/MS, LC/MS/MS, LC kolony, Kapilární elektroforéza, ICP/MS, ICP/OES, ICP/MS/MS
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Klinická analýza
WCPS: Direct determination of Al, B, Co, Cr, Mo, Ti, V and Zr in HF acid-digested nickel alloy using the Agilent 4210 MP-AES
Postery
| 2017 | Agilent Technologies
MP/ICP-AES
Instrumentace
MP/ICP-AES
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Materiálová analýza
Direct determination of Al, B, Co, Cr, Mo, Ti, V and Zr in HF acid-digested nickel alloy using the Agilent 4210 Microwave Plasma-Atomic Emission Spectrometer
Aplikace
| 2016 | Agilent Technologies
MP/ICP-AES
Instrumentace
MP/ICP-AES
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Materiálová analýza
Determination of Trace Metal Impurities in High Purity Aluminum Nitrate using ICP-OES
Aplikace
| 2023 | Agilent Technologies
ICP/OES
Instrumentace
ICP/OES
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Průmysl a chemie
Další informace
WebinářeO násKontaktujte násPodmínky užití
LabRulez s.r.o. Všechna práva vyhrazena. Obsah dostupný pod licencí CC BY-SA 4.0 Uveďte původ-Zachovejte licenci.