Rozcestník
Novinky
Novinky
Nejbližší akce
Akademie - již brzy
Knihovna
ICPMS
GCMS
LCMS
Webináře
Webináře
Produkty
Přístroje a služby
Bazar
Společnosti
Komerční
Nekomerční
Mediální
Kariéra
Nabídky práce
Další informace
Webináře
O nás
Kontaktujte nás
Podmínky užití
LabRulez s.r.o. Všechna práva vyhrazena. Obsah dostupný pod licencí CC BY-SA 4.0 Uveďte původ-Zachovejte licenci.
Novinky
Knihovna
Webináře
Produkty
Společnosti
Kariéra
Novinky
Nejbližší akce
Akademie - již brzy
ICPMS
GCMS
LCMS
Webináře
Přístroje a služby
Bazar
Komerční
Nekomerční
Mediální
Nabídky práce
Databáze
ICPMS
GCMS
LCMS
Zaměření
Farmaceutická analýza
(3)
Klinická analýza
(2)
Materiálová analýza
(2)
Nebezpečné látky
(1)
Instrumentace
ICP/MS
(44)
ICP/MS/MS
(14)
ICP/OES
(1)
Laserová ablace
(1)
Výrobce
Agilent Technologies
CEM
(1)
ELGA LabWater
(1)
Elemental Scientific
(1)
Agilent Technologies
Autor
Agilent Technologies
(45)
Typ Publikace
Aplikace
(28)
Ostatní
(6)
Postery
(3)
Příručky
(4)
Rok vydání
Ultratrace Analysis of Solar (Photovoltaic) Grade Bulk Silicon by ICP-MS
Aplikace
| 2008 | Agilent Technologies
ICP/MS
Instrumentace
ICP/MS
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Polovodiče
Characterization of Trace Impurities in Silicon Wafers by High Sensitivity Reaction Cell ICP-MS
Aplikace
| 2003 | Agilent Technologies
ICP/MS
Instrumentace
ICP/MS
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Polovodiče
Trace Elemental Analysis of Trichlorosilane by Agilent ICP-MS
Aplikace
| 2021 | Agilent Technologies
ICP/MS
Instrumentace
ICP/MS
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Polovodiče
Determination of challenging elements in ultrapure semiconductor grade sulfuric acid by Triple Quadrupole ICP-MS
Aplikace
| 2015 | Agilent Technologies
ICP/MS, ICP/MS/MS
Instrumentace
ICP/MS, ICP/MS/MS
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Polovodiče
Analysis of trace metallic impurities in hydrocarbon fuels by ICP-MS
Aplikace
| 2013 | Agilent Technologies
ICP/MS
Instrumentace
ICP/MS
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Průmysl a chemie
Direct Analysis of Trace Metallic Impurities in High Purity Hydrochloric Acid by 7700s/7900 ICP-MS
Aplikace
| 2017 | Agilent Technologies
ICP/MS
Instrumentace
ICP/MS
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Průmysl a chemie
Basic Performance of the Agilent 7700s ICP-MS for the Analysis of Semiconductor Samples
Technické články
| 2010 | Agilent Technologies
ICP/MS
Instrumentace
ICP/MS
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Polovodiče
Direct Measurement of Metallic Impurities in 20% Ammonium Hydroxide by 7700s/7900 ICP-MS
Aplikace
| 2017 | Agilent Technologies
ICP/MS
Instrumentace
ICP/MS
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Polovodiče
Direct Analysis of Photoresist and Related Solvents Using the Agilent 7500cs ICP-MS
Aplikace
| 2004 | Agilent Technologies
ICP/MS
Instrumentace
ICP/MS
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Polovodiče
Determination of Trace Metal Impurities in Semiconductor Grade Phosphoric Acid by High Sensitivity Reaction Cell ICP-MS
Aplikace
| 2003 | Agilent Technologies
ICP/MS
Instrumentace
ICP/MS
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Polovodiče
Před
1
2
...
Další
Mohlo by Vás zajímat
Aktualizace služeb: Úspěšná akreditace a rozšíření nabídky
St, 24.4.2024
ALS Czech Republic
Pozvánka na LABOREXPO & PROCESEXPO 2024
Út, 23.4.2024
CHEMAGAZÍN
Aktuality v oblasti servisních služeb a zákaznických školení (M. Juříček) - NPI2023
Út, 23.4.2024
Altium International
Další projekty
Sledujte nás
Další informace
Webináře
O nás
Kontaktujte nás
Podmínky užití
LabRulez s.r.o. Všechna práva vyhrazena. Obsah dostupný pod licencí CC BY-SA 4.0 Uveďte původ-Zachovejte licenci.