Characterization of Surface Metal Contamination on Silicon Wafers Using Surface Metal Extraction Inductively Coupled Plasma Mass Spectrometry (SME- ICP-MS)
Aplikace
| 2001 | Agilent Technologies
ICP/MS
Instrumentace
ICP/MS
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Polovodiče
Shimadzu Journal Vol. 08 - Hydrocarbon Processing Industry
Ostatní
| 2021 | Shimadzu
GC, Mikroskopie, X-ray
Instrumentace
GC, Mikroskopie, X-ray
Výrobce
Shimadzu
Zaměření
Průmysl a chemie
Trace Metals in Water Samples Using the Agilent 5000 Series ICP-OES Systems
Příručky
| 2021 | Agilent Technologies
Spotřební materiál, ICP-OES
Instrumentace
Spotřební materiál, ICP-OES
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Životní prostředí
Ultra-Low Carbon and Sulfur Analysis in Steel, Nickel-Base, and Cobalt-Base Alloys
Aplikace
| 2010 | LECO
Elementární analýza, Termální analýza
Instrumentace
Elementární analýza, Termální analýza
Výrobce
LECO
Zaměření
Materiálová analýza, Průmysl a chemie
Isotope Ratio Analysis Solves Complex Problems
Technické články
| 2024 | ALS Europe (ALS Czech Republic)
Elementární analýza, ICP/MS
Instrumentace
Elementární analýza, ICP/MS
Výrobce
Zaměření
Životní prostředí
Rapid Testing of Solvents Through Amber Bottles using an Agilent Vaya Handheld Raman Spectrometer