Rozcestník
Další informace
WebinářeO násKontaktujte násPodmínky užití
LabRulez s.r.o. Všechna práva vyhrazena. Obsah dostupný pod licencí CC BY-SA 4.0 Uveďte původ-Zachovejte licenci.
Direct Measurement of Metallic Impurities in 20% Ammonium Hydroxide by 7700s/7900 ICP-MS
Aplikace
| 2017 | Agilent Technologies
ICP/MS
Instrumentace
ICP/MS
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Polovodiče
DST-1000 / DST-4000 Frequently Asked Questions
Ostatní
| 2016 | Savillex
Příprava vzorků
Instrumentace
Příprava vzorků
Výrobce
Savillex
Zaměření
Multicube 48 - open-vessel digestion
Brožury a specifikace
| 2019 | Anton Paar
Příprava vzorků
Instrumentace
Příprava vzorků
Výrobce
Anton Paar
Zaměření
Trace Metals in Water & Waste Samples Using an Agilent 7850 or 7900 ICP-MS
Příručky
| 2025 | Agilent Technologies
Spotřební materiál, ICP/MS
Instrumentace
Spotřební materiál, ICP/MS
Výrobce
Agilent Technologies, Elemental Scientific
Zaměření
Životní prostředí
Analysis of 50 nm Silica Nanoparticles in Semiconductor Process Chemicals by spICP-MS/MS
Aplikace
| 2023 | Agilent Technologies
ICP/MS, ICP/MS/MS
Instrumentace
ICP/MS, ICP/MS/MS
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Polovodiče
Analysis of Ultratrace Impurities in High Purity Copper using the Agilent 8900 ICP-QQQ
Aplikace
| 2018 | Agilent Technologies
ICP/MS, ICP/MS/MS
Instrumentace
ICP/MS, ICP/MS/MS
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Průmysl a chemie, Polovodiče
FLUIDIC & OPTICAL PRODUCTS AND INFORMATION
Brožury a specifikace
| 2017 | IDEX (Watrex Praha)
Spotřební materiál, HPLC, LC kolony
Instrumentace
Spotřební materiál, HPLC, LC kolony
Výrobce
Zaměření
Determination of challenging elements in ultrapure semiconductor grade sulfuric acid by Triple Quadrupole ICP-MS
Aplikace
| 2015 | Agilent Technologies
ICP/MS, ICP/MS/MS
Instrumentace
ICP/MS, ICP/MS/MS
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Polovodiče
Další projekty
Sledujte nás
Další informace
WebinářeO násKontaktujte násPodmínky užití
LabRulez s.r.o. Všechna práva vyhrazena. Obsah dostupný pod licencí CC BY-SA 4.0 Uveďte původ-Zachovejte licenci.