Rozcestník
Další informace
WebinářeO násKontaktujte násPodmínky užití
LabRulez s.r.o. Všechna práva vyhrazena. Obsah dostupný pod licencí CC BY-SA 4.0 Uveďte původ-Zachovejte licenci.
Aplikace | LabRulez ICPMS
Selection of Operating Parameters for a New Boosted-Discharge Bismuth Lamp
Aplikace
| 2010 | Agilent Technologies
AAS
Instrumentace
AAS
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
EDXRF Analysis of Cd and Pb
Aplikace
| N/A | Shimadzu
X-ray
Instrumentace
X-ray
Výrobce
Shimadzu
Zaměření
Materiálová analýza
Extending the Analytical Range for Gold Using Agilent UltrAA Lamps
Aplikace
| 2010 | Agilent Technologies
AAS
Instrumentace
AAS
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Životní prostředí
Improvement of ICP-MS detectability of phosphorus and titanium in high purity silicon samples using the Agilent 8800 Triple Quadrupole ICP-MS
Aplikace
| 2013 | Agilent Technologies
ICP/MS, ICP/MS/MS
Instrumentace
ICP/MS, ICP/MS/MS
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Polovodiče
Quantitative Analysis of Waste Oil by EDX-7000
Aplikace
| 2013 | Shimadzu
X-ray
Instrumentace
X-ray
Výrobce
Shimadzu
Zaměření
Průmysl a chemie
Determination of Mercury With On-line Addition of Stannous Chloride Using an Axial ICP-OES
Aplikace
| 2010 | Agilent Technologies
ICP/OES
Instrumentace
ICP/OES
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Životní prostředí
Determination of Trace Impurities in High-Purity Copper by Sequential ICP-OES with Axial Viewing
Aplikace
| 2010 | Agilent Technologies
ICP/OES
Instrumentace
ICP/OES
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Průmysl a chemie
Další informace
WebinářeO násKontaktujte násPodmínky užití
LabRulez s.r.o. Všechna práva vyhrazena. Obsah dostupný pod licencí CC BY-SA 4.0 Uveďte původ-Zachovejte licenci.