Rozcestník
Další informace
WebinářeO násKontaktujte násPodmínky užití
LabRulez s.r.o. Všechna práva vyhrazena. Obsah dostupný pod licencí CC BY-SA 4.0 Uveďte původ-Zachovejte licenci.
Aplikace | LabRulez ICPMS
Analysis of Gas-Phase Formaldehyde by GC-FID Method Utilizing DNPH Derivatization
Aplikace
| 2020 | Shimadzu
GC
Instrumentace
GC
Výrobce
Shimadzu
Zaměření
Průmysl a chemie
Thermal Desorption GC Analysis of High Boiling, High Molecular Weight Hydrocarbons
Aplikace
| 2004 | GERSTEL
GC, Termální desorpce
Instrumentace
GC, Termální desorpce
Výrobce
Agilent Technologies, GERSTEL
Zaměření
TCDD Isomers on the SP-2331
Aplikace
| 2003 | Merck
GC/MSD, GC kolony, Spotřební materiál
Instrumentace
GC/MSD, GC kolony, Spotřební materiál
Výrobce
Merck
Zaměření
Životní prostředí
Drugs of Abuse in Urine by SAMHSA Protocol
Aplikace
| 2014 | PerkinElmer
GC/MSD, GC/SQ
Instrumentace
GC/MSD, GC/SQ
Výrobce
PerkinElmer
Zaměření
Forenzní analýza a toxikologie
LiDAR Evaluation System: Measurement of Transmittance of Bandpass Filters
Aplikace
| 2021 | Shimadzu
NIR Spektroskopie, UV–VIS Spektrofotometrie
Instrumentace
NIR Spektroskopie, UV–VIS Spektrofotometrie
Výrobce
Shimadzu
Zaměření
Analysis of Low-Level PAHs in Drinking Water with an Agilent PAL3 equipped with SPME ARROW
Aplikace
| 2019 | Agilent Technologies
GC/MSD, SPME, GC/SQ
Instrumentace
GC/MSD, SPME, GC/SQ
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Životní prostředí
Sulfur compounds - Analysis of thiophene in benzene
Aplikace
| 2011 | Agilent Technologies
GC, GC kolony, Spotřební materiál
Instrumentace
GC, GC kolony, Spotřební materiál
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Průmysl a chemie
Sulfur compounds - Analysis of thiophene in benzene
Aplikace
| 2011 | Agilent Technologies
GC, GC kolony, Spotřební materiál
Instrumentace
GC, GC kolony, Spotřební materiál
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Průmysl a chemie
Další informace
WebinářeO násKontaktujte násPodmínky užití
LabRulez s.r.o. Všechna práva vyhrazena. Obsah dostupný pod licencí CC BY-SA 4.0 Uveďte původ-Zachovejte licenci.