The deep ultraviolet spectroscopic properties of a next-generation photoresist
Aplikace
| 2011 | Agilent Technologies
UV–VIS Spektrofotometrie
Instrumentace
UV–VIS Spektrofotometrie
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Materiálová analýza, Polovodiče
Overcoming the Challenges Facing the Development and Supply of Advanced Lithographic Materials (Photoresist) for the Semiconductor Industry with ACQUITY UPC2
Aplikace
| 2012 | Waters
SFC
Instrumentace
SFC
Výrobce
Waters
Zaměření
Materiálová analýza
The determination of thin film thickness using reflectance spectroscopy
Aplikace
| 2011 | Agilent Technologies
UV–VIS Spektrofotometrie
Instrumentace
UV–VIS Spektrofotometrie
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Materiálová analýza
Před
1
Další
Mohlo by Vás zajímat
XI. česko-slovenská konference Doprava, zdraví a životní prostředí (REGISTRACE)
Po, 29.4.2024
Centrum dopravního výzkumu (CDV)
Pozvánka na Laborexpo - stánek SHIMADZU
Ne, 12.5.2024
SHIMADZU Handels GmbH - organizační složka
Příjem bílkovin matky během těhotenství může ovlivnit vývoj obličeje novorozence