Rozcestník
Další informace
WebinářeO násKontaktujte násPodmínky užití
LabRulez s.r.o. Všechna práva vyhrazena. Obsah dostupný pod licencí CC BY-SA 4.0 Uveďte původ-Zachovejte licenci.
Aplikace | LabRulez ICPMS
Reducing Analysis Time of 8270D with the Intuvo 9000 GC
Aplikace
| 2018 | Agilent Technologies
GC/MSD, GC/SQ
Instrumentace
GC/MSD, GC/SQ
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Životní prostředí
Reducing Analysis Time Using GC/MSD and Deconvolution Reporting Software
Aplikace
| 2007 | Agilent Technologies
GC/MSD, GC/SQ
Instrumentace
GC/MSD, GC/SQ
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Potraviny a zemědělství
Reduce Cost of Pesticide Residue Analysis
Aplikace
| 2015 | Agilent Technologies
GC/MSD, GC/MS/MS, Příprava vzorků, GC/QQQ
Instrumentace
GC/MSD, GC/MS/MS, Příprava vzorků, GC/QQQ
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Potraviny a zemědělství
Reducing Cycle Time for Analysis of 1,4-Dioxane using an Atomx Automated Sample Prep System
Aplikace
| 2011 | Tekmar Teledyne
GC/MSD, Purge and Trap, GC/SQ
Instrumentace
GC/MSD, Purge and Trap, GC/SQ
Výrobce
Agilent Technologies, Tekmar Teledyne
Zaměření
Životní prostředí
Reducing the helium consumption without compromising performance using the HeSaver-H2Safer technology for PCBs analysis
Aplikace
| 2022 | Thermo Fisher Scientific
GC/MSD, GC/MS/MS, GC/QQQ
Instrumentace
GC/MSD, GC/MS/MS, GC/QQQ
Výrobce
Thermo Fisher Scientific
Zaměření
Životní prostředí
Reduced Variable Multivariate Analysis for Material Identification with the NanoRam®-1064
Aplikace
| 2019 | Metrohm
RAMAN Spektrometrie
Instrumentace
RAMAN Spektrometrie
Výrobce
Metrohm
Zaměření
Materiálová analýza
Reduce Helium Consumption by 68% Using Nitrogen Purge Gas for VOCs in Water
Aplikace
| 2014 | Restek
GC/MSD, Purge and Trap, GC/SQ, GC kolony, Spotřební materiál
Instrumentace
GC/MSD, Purge and Trap, GC/SQ, GC kolony, Spotřební materiál
Výrobce
Agilent Technologies, Restek, Parker Hannifin, EST Analytical
Zaměření
Životní prostředí
Saving Time by Reducing Calibrations for the Quantification of VOCs in Paints and Coatings using the Polyarc ® System
Aplikace
| N/A | ARC
GC, GC/MSD, GC/SQ, LC/Orbitrap
Instrumentace
GC, GC/MSD, GC/SQ, LC/Orbitrap
Výrobce
Agilent Technologies, ARC
Zaměření
Průmysl a chemie
Další informace
WebinářeO násKontaktujte násPodmínky užití
LabRulez s.r.o. Všechna práva vyhrazena. Obsah dostupný pod licencí CC BY-SA 4.0 Uveďte původ-Zachovejte licenci.