ICPMS
Další informace
WebinářeO násKontaktujte násPodmínky užití
LabRulez s.r.o. Všechna práva vyhrazena. Obsah dostupný pod licencí CC BY-SA 4.0 Uveďte původ-Zachovejte licenci.
    1. Databáze

    1. Zaměření

    1. Instrumentace

    1. Výrobce

    1. Autor

    1. Typ Publikace

    1. Rok vydání

    Agilent ICP-MS Journal (January 2013 – Issue 52)

    Ostatní
    | 2013 | Agilent Technologies
    Software, ICP/MS, Speciační analýza, ICP/MS/MS
    Instrumentace
    Software, ICP/MS, Speciační analýza, ICP/MS/MS
    Výrobce
    Agilent Technologies
    Zaměření
    Životní prostředí

    Improvement of ICP-MS detectability of phosphorus and titanium in high purity silicon samples using the Agilent 8800 Triple Quadrupole ICP-MS

    Aplikace
    | 2013 | Agilent Technologies
    ICP/MS, ICP/MS/MS
    Instrumentace
    ICP/MS, ICP/MS/MS
    Výrobce
    Agilent Technologies
    Zaměření
    Polovodiče

    WCPS: Determination of ultra-trace level impurities in high-purity metal samples by ICP-QQQ

    Postery
    | 2017 | Agilent Technologies
    ICP/MS, ICP/MS/MS
    Instrumentace
    ICP/MS, ICP/MS/MS
    Výrobce
    Agilent Technologies
    Zaměření
    Materiálová analýza

    Direct Measurement of Metallic Impurities in 20% Ammonium Hydroxide by 7700s/7900 ICP-MS

    Aplikace
    | 2017 | Agilent Technologies
    ICP/MS
    Instrumentace
    ICP/MS
    Výrobce
    Agilent Technologies
    Zaměření
    Polovodiče

    Analysis of Ultratrace Impurities in High Purity Copper using the Agilent 8900 ICP-QQQ

    Aplikace
    | 2018 | Agilent Technologies
    ICP/MS, ICP/MS/MS
    Instrumentace
    ICP/MS, ICP/MS/MS
    Výrobce
    Agilent Technologies
    Zaměření
    Průmysl a chemie, Polovodiče

    Measuring Inorganic Impurities in Semiconductor Manufacturing

    Příručky
    | 2022 | Agilent Technologies
    GC, ICP/MS, Speciační analýza, ICP/MS/MS
    Instrumentace
    GC, ICP/MS, Speciační analýza, ICP/MS/MS
    Výrobce
    Agilent Technologies
    Zaměření
    Polovodiče

    Determination of Ultratrace Impurities in Semiconductor Photoresist Using ICP-MS/MS

    Aplikace
    | 2023 | Agilent Technologies
    ICP/MS, ICP/MS/MS
    Instrumentace
    ICP/MS, ICP/MS/MS
    Výrobce
    Agilent Technologies
    Zaměření
    Polovodiče

    Determination of trace elements in steel using the Agilent 7900 ICP-MS

    Aplikace
    | 2015 | Agilent Technologies
    ICP/MS
    Instrumentace
    ICP/MS
    Výrobce
    Agilent Technologies
    Zaměření
    Průmysl a chemie

    Determination of Trace Elements in Aqueous Urea Solution (AUS 32) Diesel Exhaust Fluid by ICP-OES

    Aplikace
    | 2020 | Agilent Technologies
    ICP/OES
    Instrumentace
    ICP/OES
    Výrobce
    Agilent Technologies
    Zaměření
    Životní prostředí

    Agilent ICP-MS Journal (April 2018. Issue 72)

    Ostatní
    | 2018 | Agilent Technologies
    ICP/MS, ICP/MS/MS
    Instrumentace
    ICP/MS, ICP/MS/MS
    Výrobce
    Agilent Technologies
    Zaměření
    Potraviny a zemědělství, Polovodiče
     

    Mohlo by Vás zajímat


    Aktualizace služeb: Úspěšná akreditace a rozšíření nabídky

    St, 24.4.2024
    ALS Czech Republic

    Pozvánka na LABOREXPO & PROCESEXPO 2024

    Út, 23.4.2024
    CHEMAGAZÍN

    Aktuality v oblasti servisních služeb a zákaznických školení (M. Juříček) - NPI2023

    Út, 23.4.2024
    Altium International
    Další projekty
    Sledujte nás
    Další informace
    WebinářeO násKontaktujte násPodmínky užití
    LabRulez s.r.o. Všechna práva vyhrazena. Obsah dostupný pod licencí CC BY-SA 4.0 Uveďte původ-Zachovejte licenci.