ICPMS
Další informace
WebinářeO násKontaktujte násPodmínky užití
LabRulez s.r.o. Všechna práva vyhrazena. Obsah dostupný pod licencí CC BY-SA 4.0 Uveďte původ-Zachovejte licenci.
Pořadatel
Agilent Technologies
Agilent Technologies
Analytičtí vědci a kliničtí výzkumníci po celém světě spoléhají na Agilent a na to, že jim pomůže splnit i ty nejsložitější požadavky v laboratoři. Naše přístroje, software, služby a spotřební materiál řeší celou škálu potřeb ve Vaší laboratoři.
Tagy
ICP/MS
ICP/MS/MS
LinkedIn Logo

Non-Traditional Elements in Semiconductor Solvents by 8900 Triple Quad ICP-MS

ZÁZNAM | Proběhlo Út, 3.12.2024
Netradiční prvky v polovodičových rozpouštědlech pomocí 8900 Triple Quad ICP-MS.
Přejít na webinář
Agilent: Agilent Webinar Series - Semiconductor and Specialty Chemical Industry
Agilent: Agilent Webinar Series - Semiconductor and Specialty Chemical Industry

The Analysis of a Solvents in the Semiconductor Industry is a common application due to the uses in photolithography, and in wets purposes in the wafer fabrication environment.

Traditionally elements like the Group 1, Group 2 and Transition Row elements were analyzed as they were charge carriers that damaged these semiconductor devices in their respective processes. However, as device sizes get smaller and smaller, and the desire for yields is higher the analysis for elements that were traditionally not analyzed in their matrices like Silicon, Sulfur and Phosphorus has increased. Silicon, Sulfur and Phosphorus are notoriously difficult to analyze due to their low ionization potentials and their low ionization in an argon plasma. Also, silicon sulfur and phosphorus all suffer from significant poly-atomic interferences which make trace level analysis of these elements in a carbon matrix nearly impossible.

The use of the Agilent 8900 Triple Quad ICPMS with MSMS technology was used to not only remove these poly-atomic interferences to trace levels in these matrices.

Presenter: Bert Woods (Application Scientist, Agilent Technologies, Inc.)

Joined the Agilent ICP-MS team in 2004, with previous employment in the semiconductor industry with Dominion Semiconductor (IBM/Toshiba) and Micron. Bert is a 1997 Chemistry graduate of Radford University in Virginia and an avid Washington DC Sports fan.

Agilent Technologies
LinkedIn Logo
 

Mohlo by Vás zajímat

Analysis of rare earth elements in clay using XRF and XRD

Aplikace
| 2026 | Thermo Fisher Scientific
Instrumentace
XRD
Výrobce
Thermo Fisher Scientific
Zaměření
Materiálová analýza

Measurement of TOC in Chloroisocyanuric Acid Used as Disinfectant

Aplikace
| 2026 | Shimadzu
Instrumentace
TOC
Výrobce
Shimadzu
Zaměření
Farmaceutická analýza

High Precision Analysis of Major Components in Precious Metals by ICP-OES

Aplikace
| 2025 | Agilent Technologies
Instrumentace
ICP-OES
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Materiálová analýza

Analysis of Heavy Metals in Baby FoodUsing ICP-MS

Aplikace
| 2025 | Shimadzu
Instrumentace
ICP/MS
Výrobce
Shimadzu
Zaměření
Potraviny a zemědělství

ICP-OES Analysis of Copper Recovered from Li-Ion Batteries for Foil Manufacturing

Aplikace
| 2025 | Agilent Technologies
Instrumentace
ICP-OES
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Materiálová analýza
Další projekty
GCMS
LCMS
Sledujte nás
Další informace
WebinářeO násKontaktujte násPodmínky užití
LabRulez s.r.o. Všechna práva vyhrazena. Obsah dostupný pod licencí CC BY-SA 4.0 Uveďte původ-Zachovejte licenci.