Rozcestník
Novinky
Novinky
Nejbližší akce
Akademie - již brzy
Knihovna
ICPMS
GCMS
LCMS
Webináře
Webináře
Produkty
Přístroje a služby
Bazar
Společnosti
Komerční
Nekomerční
Mediální
Kariéra
Nabídky práce
Další informace
Webináře
O nás
Kontaktujte nás
Podmínky užití
LabRulez s.r.o. Všechna práva vyhrazena. Obsah dostupný pod licencí CC BY-SA 4.0 Uveďte původ-Zachovejte licenci.
Novinky
Knihovna
Webináře
Produkty
Společnosti
Kariéra
Novinky
Nejbližší akce
Akademie - již brzy
ICPMS
GCMS
LCMS
Webináře
Přístroje a služby
Bazar
Komerční
Nekomerční
Mediální
Nabídky práce
Databáze
ICPMS
GCMS
LCMS
Zaměření
Polovodiče
Polovodiče
Instrumentace
ICP/MS
(14)
ICP/MS/MS
Laserová ablace
(1)
ICP/MS/MS
Výrobce
Agilent Technologies
(14)
Autor
Agilent Technologies
(14)
Typ Publikace
Aplikace
Ostatní
(3)
Postery
(1)
Příručky
(3)
Aplikace
Rok vydání
Aplikace z oblasti Polovodiče se zaměřením na ICP/MS/MS | LabRulez ICPMS
Automated Analysis of Ultratrace Elemental Impurities in Isopropyl Alcohol
Aplikace
| 2022 | Agilent Technologies
ICP/MS, ICP/MS/MS
Instrumentace
ICP/MS, ICP/MS/MS
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Polovodiče
Automated Analysis of Semiconductor Grade Hydrogen Peroxide and DI Water using ICP-QQQ
Aplikace
| 2018 | Agilent Technologies
ICP/MS, ICP/MS/MS
Instrumentace
ICP/MS, ICP/MS/MS
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Polovodiče
Direct Analysis of Trace Metal Impurities in High Purity Nitric Acid Using ICP-QQQ
Aplikace
| 2018 | Agilent Technologies
ICP/MS, ICP/MS/MS
Instrumentace
ICP/MS, ICP/MS/MS
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Polovodiče
Ultratrace measurement of calcium in ultrapure water using the Agilent 8800 Triple Quadrupole ICP-MS
Aplikace
| 2012 | Agilent Technologies
ICP/MS, ICP/MS/MS
Instrumentace
ICP/MS, ICP/MS/MS
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Polovodiče
Analysis of Trace Metal Impurities in High Purity Hydrochloric Acid Using ICP-QQQ
Aplikace
| 2017 | Agilent Technologies
ICP/MS, ICP/MS/MS
Instrumentace
ICP/MS, ICP/MS/MS
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Polovodiče
Ultrapure Process Chemicals Analysis by ICP-QQQ with Hot Plasma Conditions
Aplikace
| 2021 | Agilent Technologies
ICP/MS, ICP/MS/MS
Instrumentace
ICP/MS, ICP/MS/MS
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Polovodiče
Elemental and Particle Analysis of N-Methyl-2-Pyrrolidone (NMP) by ICP-MS/MS
Aplikace
| 2022 | Agilent Technologies
ICP/MS, ICP/MS/MS
Instrumentace
ICP/MS, ICP/MS/MS
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Polovodiče
Direct Analysis of Metallic Impurities in SiC and GaN Wafers by LA-GED-MSAG-ICP-MS/MS
Aplikace
| 2023 | Agilent Technologies
ICP/MS, ICP/MS/MS, Laserová ablace
Instrumentace
ICP/MS, ICP/MS/MS, Laserová ablace
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Polovodiče
Determination of trace elements in ultrapure semiconductor grade sulfuric acid using the Agilent 8900 ICP-QQQ in MS/MS mode
Aplikace
| 2018 | Agilent Technologies
ICP/MS, ICP/MS/MS
Instrumentace
ICP/MS, ICP/MS/MS
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Polovodiče
Analysis of Metallic Impurities in Specialty Semiconductor Gases Using Gas Exchange Device (GED)-ICP-MS
Aplikace
| 2022 | Agilent Technologies
ICP/MS, ICP/MS/MS
Instrumentace
ICP/MS, ICP/MS/MS
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Polovodiče
Před
1
2
Další
Mohlo by Vás zajímat
Laboratoř anorganické chemie ALS Czech Republic v Praze
St, 22.5.2024
ALS Czech Republic
Pozvánka na LABOREXPO - stánek ALTIUM INTERNATIONAL
Út, 21.5.2024
Altium International
Přednáška LABOREXPO 2024: Budoucnost analýzy potravin a krmiv pomocí NIR spektrometrie (OPTIK INSTRUMENTS)
Po, 20.5.2024
LabRulez
Další projekty
Sledujte nás
Další informace
Webináře
O nás
Kontaktujte nás
Podmínky užití
LabRulez s.r.o. Všechna práva vyhrazena. Obsah dostupný pod licencí CC BY-SA 4.0 Uveďte původ-Zachovejte licenci.