Sub-ppb detection limits for hydride gas contaminants using GC-ICP-QQQ
Aplikace
| 2015 | Agilent Technologies
GC, Speciační analýza, ICP/MS/MS
Instrumentace
GC, Speciační analýza, ICP/MS/MS
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Průmysl a chemie, Polovodiče
Determination of Trace Impurities in Electronic Grade Arsine by GC-ICP-QQQ
Aplikace
| 2020 | Agilent Technologies
GC, ICP/MS, Speciační analýza, ICP/MS/MS
Instrumentace
GC, ICP/MS, Speciační analýza, ICP/MS/MS
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Polovodiče
Elemental and Particle Analysis of N-Methyl-2-Pyrrolidone (NMP) by ICP-MS/MS
Aplikace
| 2022 | Agilent Technologies
ICP/MS, ICP/MS/MS
Instrumentace
ICP/MS, ICP/MS/MS
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Polovodiče
Characterization of Surface Metal Contamination on Silicon Wafers Using Surface Metal Extraction Inductively Coupled Plasma Mass Spectrometry (SME- ICP-MS)
Aplikace
| 2001 | Agilent Technologies
ICP/MS
Instrumentace
ICP/MS
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Polovodiče
Direct Analysis of Photoresist and Related Solvents Using the Agilent 7500cs ICP-MS
Aplikace
| 2004 | Agilent Technologies
ICP/MS
Instrumentace
ICP/MS
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Polovodiče
Quantitative analysis of high purity metals using laser ablation coupled to an Agilent 7900 ICP-MS
Aplikace
| 2015 | Agilent Technologies
ICP/MS, Laserová ablace
Instrumentace
ICP/MS, Laserová ablace
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Průmysl a chemie, Polovodiče
Analysis of Metallic Impurities in Specialty Semiconductor Gases Using Gas Exchange Device (GED)-ICP-MS
Aplikace
| 2022 | Agilent Technologies
ICP/MS, ICP/MS/MS
Instrumentace
ICP/MS, ICP/MS/MS
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Polovodiče
Improvement of ICP-MS detectability of phosphorus and titanium in high purity silicon samples using the Agilent 8800 Triple Quadrupole ICP-MS
Aplikace
| 2013 | Agilent Technologies
ICP/MS, ICP/MS/MS
Instrumentace
ICP/MS, ICP/MS/MS
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Polovodiče
Ultratrace Analysis of Solar (Photovoltaic) Grade Bulk Silicon by ICP-MS
Aplikace
| 2008 | Agilent Technologies
ICP/MS
Instrumentace
ICP/MS
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Polovodiče
Direct Measurement of Metallic Impurities in 20% Ammonium Hydroxide by 7700s/7900 ICP-MS