Sub-ppb detection limits for hydride gas contaminants using GC-ICP-QQQ
Aplikace
| 2015 | Agilent Technologies
GC, Speciační analýza, ICP/MS/MS
Instrumentace
GC, Speciační analýza, ICP/MS/MS
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Průmysl a chemie, Polovodiče
Trace Elemental Analysis of Trichlorosilane by Agilent ICP-MS
Aplikace
| 2021 | Agilent Technologies
ICP/MS
Instrumentace
ICP/MS
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Polovodiče
Analysis of 15 nm Iron Nanoparticles in Organic Solvents by spICP-MS
Aplikace
| 2020 | Agilent Technologies
ICP/MS, ICP/MS/MS
Instrumentace
ICP/MS, ICP/MS/MS
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Polovodiče
Determination of Trace Metal Impurities in Semiconductor Grade Phosphoric Acid by High Sensitivity Reaction Cell ICP-MS
Aplikace
| 2003 | Agilent Technologies
ICP/MS
Instrumentace
ICP/MS
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Polovodiče
Direct Analysis of Photoresist and Related Solvents Using the Agilent 7500cs ICP-MS
Aplikace
| 2004 | Agilent Technologies
ICP/MS
Instrumentace
ICP/MS
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Polovodiče
Ultratrace Analysis of Solar (Photovoltaic) Grade Bulk Silicon by ICP-MS
Aplikace
| 2008 | Agilent Technologies
ICP/MS
Instrumentace
ICP/MS
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Polovodiče
Characterization of Surface Metal Contamination on Silicon Wafers Using Surface Metal Extraction Inductively Coupled Plasma Mass Spectrometry (SME- ICP-MS)
Aplikace
| 2001 | Agilent Technologies
ICP/MS
Instrumentace
ICP/MS
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Polovodiče
Determination of Trace Impurities in Electronic Grade Arsine by GC-ICP-QQQ
Aplikace
| 2020 | Agilent Technologies
GC, ICP/MS, Speciační analýza, ICP/MS/MS
Instrumentace
GC, ICP/MS, Speciační analýza, ICP/MS/MS
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Polovodiče
Direct Analysis of Trace Metal Impurities in High Purity Nitric Acid Using ICP-QQQ
Aplikace
| 2018 | Agilent Technologies
ICP/MS, ICP/MS/MS
Instrumentace
ICP/MS, ICP/MS/MS
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Polovodiče
Damage-free failure/defect analysis in electronics and semiconductor industries using micro-ATR FTIR imaging