Rozcestník
Novinky
Novinky
Nejbližší akce
Akademie - již brzy
Knihovna
ICPMS
GCMS
LCMS
Webináře
Webináře
Produkty
Přístroje a služby
Bazar
Společnosti
Komerční
Nekomerční
Mediální
Kariéra
Nabídky práce
Další informace
Webináře
O nás
Kontaktujte nás
Podmínky užití
LabRulez s.r.o. Všechna práva vyhrazena. Obsah dostupný pod licencí CC BY-SA 4.0 Uveďte původ-Zachovejte licenci.
Novinky
Knihovna
Webináře
Produkty
Společnosti
Kariéra
Novinky
Nejbližší akce
Akademie - již brzy
ICPMS
GCMS
LCMS
Webináře
Přístroje a služby
Bazar
Komerční
Nekomerční
Mediální
Nabídky práce
Databáze
ICPMS
GCMS
LCMS
Zaměření
Farmaceutická analýza
(1)
Klinická analýza
(1)
Materiálová analýza
(1)
Polovodiče
Polovodiče
Instrumentace
AAS
(1)
ICP/MS
(30)
ICP/MS/MS
(23)
ICP/OES
(2)
Výrobce
Agilent Technologies
(29)
Elemental Scientific
(1)
Savillex
(1)
Autor
Agilent Technologies
(29)
Savillex
(1)
Typ Publikace
Aplikace
(22)
Manuály
(1)
Ostatní
(2)
Postery
(2)
Rok vydání
Aplikace z oblasti Polovodiče | LabRulez ICPMS
C-Flow Nebulizer - Operating Instructions
Manuály
| 2020 | Savillex
Spotřební materiál, ICP/MS, ICP/OES, MP/ICP-AES
Instrumentace
Spotřební materiál, ICP/MS, ICP/OES, MP/ICP-AES
Výrobce
Savillex
Zaměření
Polovodiče
Gas chromatographic separation of metal carbonyls in carbon monoxide with detection using the Agilent 8800 ICP-QQQ
Aplikace
| 2016 | Agilent Technologies
GC, ICP/MS, Speciační analýza, ICP/MS/MS
Instrumentace
GC, ICP/MS, Speciační analýza, ICP/MS/MS
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Průmysl a chemie, Polovodiče
Agilent Atomic Spectroscopy Solutions for the Semiconductor Industry
Příručky
| 2020 | Agilent Technologies
ICP/MS, ICP/OES, AAS, ICP/MS/MS, MP/ICP-AES
Instrumentace
ICP/MS, ICP/OES, AAS, ICP/MS/MS, MP/ICP-AES
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Polovodiče
Direct Analysis of Metallic Impurities in SiC and GaN Wafers by LA-GED-MSAG-ICP-MS/MS
Aplikace
| 2023 | Agilent Technologies
ICP/MS, ICP/MS/MS, Laserová ablace
Instrumentace
ICP/MS, ICP/MS/MS, Laserová ablace
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Polovodiče
Automated Analysis of Ultratrace Elemental Impurities in Isopropyl Alcohol
Aplikace
| 2022 | Agilent Technologies
ICP/MS, ICP/MS/MS
Instrumentace
ICP/MS, ICP/MS/MS
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Polovodiče
Direct Measurement of Metallic Impurities in 20% Ammonium Hydroxide by 7700s/7900 ICP-MS
Aplikace
| 2017 | Agilent Technologies
ICP/MS
Instrumentace
ICP/MS
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Polovodiče
Ultra-low level determination of phosphorus, sulfur, silicon and chlorine using the Agilent 8900 ICP-QQQ
Aplikace
| 2018 | Agilent Technologies
ICP/MS, ICP/MS/MS
Instrumentace
ICP/MS, ICP/MS/MS
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Polovodiče
Measuring Inorganic Impurities in Semiconductor Manufacturing
Příručky
| 2022 | Agilent Technologies
GC, ICP/MS, Speciační analýza, ICP/MS/MS
Instrumentace
GC, ICP/MS, Speciační analýza, ICP/MS/MS
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Polovodiče
Analysis of 15 nm Iron Nanoparticles in Organic Solvents by spICP-MS
Aplikace
| 2020 | Agilent Technologies
ICP/MS, ICP/MS/MS
Instrumentace
ICP/MS, ICP/MS/MS
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Polovodiče
WCPS: Efficient Removal of Polyatomic Ions by ICP-MS Equipped with Novel Reaction Cell: Examples of Highly Purified Chemicals Used for Semiconductor
Postery
| 2012 | Agilent Technologies
ICP/MS, ICP/MS/MS
Instrumentace
ICP/MS, ICP/MS/MS
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Polovodiče
Před
1
2
...
Další
Mohlo by Vás zajímat
Laureátkou ceny Via Chimica pro rok 2024 je Karolína Slonková
Ne, 2.6.2024
Nadace Experientia
„První komunikátoři vědy pro mě byli už učitelé na střední,“ říká výzkumnice a laureátka ceny Učené společnosti Barbora Rudzanová
Ne, 2.6.2024
RECETOX - Centrum pro výzkum toxických látek v prostředí
Podcast CHEmic #29 – Divadlo i věda nám pomáhají porozumět světu, říká dramatik a matematik René Levínský
Čt, 30.5.2024
Ústav organické chemie a biochemie AV ČR
Další projekty
Sledujte nás
Další informace
Webináře
O nás
Kontaktujte nás
Podmínky užití
LabRulez s.r.o. Všechna práva vyhrazena. Obsah dostupný pod licencí CC BY-SA 4.0 Uveďte původ-Zachovejte licenci.