Online monitoring of sulfuric acid and hydrogen peroxide using Raman spectroscopy
Aplikace
| 2023 | Metrohm
RAMAN Spektrometrie
Instrumentace
RAMAN Spektrometrie
Výrobce
Metrohm
Zaměření
Polovodiče
Agilent Atomic Spectroscopy Solutions for the Semiconductor Industry
Příručky
| 2020 | Agilent Technologies
ICP/MS, ICP/OES, AAS, ICP/MS/MS, MP/ICP-AES
Instrumentace
ICP/MS, ICP/OES, AAS, ICP/MS/MS, MP/ICP-AES
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Polovodiče
Agilent ICP-MS Journal (July 2017 – Issue 69)
Ostatní
| 2017 | Agilent Technologies
ICP/MS
Instrumentace
ICP/MS
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Životní prostředí, Farmaceutická analýza, Polovodiče
Ultratrace measurement of calcium in ultrapure water using the Agilent 8800 Triple Quadrupole ICP-MS
Aplikace
| 2012 | Agilent Technologies
ICP/MS, ICP/MS/MS
Instrumentace
ICP/MS, ICP/MS/MS
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Polovodiče
Basic Performance of the Agilent 7700s ICP-MS for the Analysis of Semiconductor Samples
Technické články
| 2010 | Agilent Technologies
ICP/MS
Instrumentace
ICP/MS
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Polovodiče
Characterization of Surface Metal Contamination on Silicon Wafers Using Surface Metal Extraction Inductively Coupled Plasma Mass Spectrometry (SME- ICP-MS)
Aplikace
| 2001 | Agilent Technologies
ICP/MS
Instrumentace
ICP/MS
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Polovodiče
Agilent ICP-MS Journal (March 2012 – Issue 49)
Ostatní
| 2012 | Agilent Technologies
ICP/MS, ICP/MS/MS
Instrumentace
ICP/MS, ICP/MS/MS
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Průmysl a chemie, Polovodiče
Determination of challenging elements in ultrapure semiconductor grade sulfuric acid by Triple Quadrupole ICP-MS
Aplikace
| 2015 | Agilent Technologies
ICP/MS, ICP/MS/MS
Instrumentace
ICP/MS, ICP/MS/MS
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Polovodiče
Determination of Trace Impurities in Electronic Grade Arsine by GC-ICP-QQQ