Determination of challenging elements in ultrapure semiconductor grade sulfuric acid by Triple Quadrupole ICP-MS
Aplikace
| 2015 | Agilent Technologies
ICP/MS, ICP/MS/MS
Instrumentace
ICP/MS, ICP/MS/MS
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Polovodiče
Determination of Trace Impurities in Electronic Grade Arsine by GC-ICP-QQQ
Aplikace
| 2020 | Agilent Technologies
GC, ICP/MS, Speciační analýza, ICP/MS/MS
Instrumentace
GC, ICP/MS, Speciační analýza, ICP/MS/MS
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Polovodiče
Lowering the Cost of Fluoropolymer Components in Semiconductor Manufacturing
Technické články
| 2021 | Savillex
Spotřební materiál
Instrumentace
Spotřební materiál
Výrobce
Savillex
Zaměření
Polovodiče
Ultratrace measurement of calcium in ultrapure water using the Agilent 8800 Triple Quadrupole ICP-MS
Aplikace
| 2012 | Agilent Technologies
ICP/MS, ICP/MS/MS
Instrumentace
ICP/MS, ICP/MS/MS
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Polovodiče
Analysis of Trace Metal Impurities in High Purity Hydrochloric Acid Using ICP-QQQ
Aplikace
| 2017 | Agilent Technologies
ICP/MS, ICP/MS/MS
Instrumentace
ICP/MS, ICP/MS/MS
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Polovodiče
Characterization of Surface Metal Contamination on Silicon Wafers Using Surface Metal Extraction Inductively Coupled Plasma Mass Spectrometry (SME- ICP-MS)
Aplikace
| 2001 | Agilent Technologies
ICP/MS
Instrumentace
ICP/MS
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Polovodiče
WCPS: Accurate determination of Eu, and Sm in ultra-pure barium carbonate materials by ICP-QQQ
Postery
| 2017 | Agilent Technologies
ICP/MS, ICP/MS/MS
Instrumentace
ICP/MS, ICP/MS/MS
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Materiálová analýza, Polovodiče
Elemental and Particle Analysis of N-Methyl-2-Pyrrolidone (NMP) by ICP-MS/MS
Aplikace
| 2022 | Agilent Technologies
ICP/MS, ICP/MS/MS
Instrumentace
ICP/MS, ICP/MS/MS
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Polovodiče
Automated Analysis of Ultratrace Elemental Impurities in Isopropyl Alcohol