Rozcestník
Další informace
WebinářeO násKontaktujte násPodmínky užití
LabRulez s.r.o. Všechna práva vyhrazena. Obsah dostupný pod licencí CC BY-SA 4.0 Uveďte původ-Zachovejte licenci.
Aplikace z oblasti Materiálová analýza | LabRulez ICPMS
Measuring the cover and shade protection factors of synthetic shadecloth
Aplikace
| 2011 | Agilent Technologies
UV–VIS Spektrofotometrie
Instrumentace
UV–VIS Spektrofotometrie
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Materiálová analýza
Measuring the UV protection factor (UPF) of fabrics and clothing
Aplikace
| 2011 | Agilent Technologies
UV–VIS Spektrofotometrie
Instrumentace
UV–VIS Spektrofotometrie
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Materiálová analýza
Introduction of Quantitative Analysis of Aluminum Alloys and Matching Function
Aplikace
| 2022 | Shimadzu
X-ray
Instrumentace
X-ray
Výrobce
Shimadzu
Zaměření
Materiálová analýza
Determination of Elements in Ternary Material Nickel-Cobalt-Manganese Hydride
Aplikace
| 2019 | Agilent Technologies
ICP/OES
Instrumentace
ICP/OES
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Materiálová analýza
Determination of Metals in Recycled Li-ion Battery Samples by ICP-OES
Aplikace
| 2023 | Agilent Technologies
ICP/OES
Instrumentace
ICP/OES
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Průmysl a chemie, Materiálová analýza
Determination of Elemental Impurities in Graphite-based Anodes using the Agilent 5110 ICP-OES
Aplikace
| 2019 | Agilent Technologies
ICP/OES
Instrumentace
ICP/OES
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Materiálová analýza
Identification of Copper Concentrates Using EDX and XRD
Aplikace
| 2021 | Shimadzu
X-ray, XRD
Instrumentace
X-ray, XRD
Výrobce
Shimadzu
Zaměření
Materiálová analýza
Analysis of steel and its alloys using the GB/T 20125-2006 standard and an Agilent 5100 ICP-OES in dual view mode
Aplikace
| 2015 | Agilent Technologies
ICP/OES
Instrumentace
ICP/OES
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Průmysl a chemie, Materiálová analýza
Mohlo by Vás zajímat
Další informace
WebinářeO násKontaktujte násPodmínky užití
LabRulez s.r.o. Všechna práva vyhrazena. Obsah dostupný pod licencí CC BY-SA 4.0 Uveďte původ-Zachovejte licenci.