Rozcestník
Další informace
WebinářeO násKontaktujte násPodmínky užití
LabRulez s.r.o. Všechna práva vyhrazena. Obsah dostupný pod licencí CC BY-SA 4.0 Uveďte původ-Zachovejte licenci.
Aplikace z oblasti Materiálová analýza | LabRulez ICPMS
Coated Wafer Mapping Using UV-Vis Spectral Reflection and Transmission Measurements
Aplikace
| 2020 | Agilent Technologies
NIR Spektroskopie, UV–VIS Spektrofotometrie
Instrumentace
NIR Spektroskopie, UV–VIS Spektrofotometrie
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Materiálová analýza, Polovodiče
Quantitative characterization of silica nanoparticles by asymmetric flow FFF‑MALS‑ICP‑QQQ using the Agilent 8800 ICP‑QQQ
Aplikace
| 2016 | Agilent Technologies
ICP/MS, ICP/MS/MS
Instrumentace
ICP/MS, ICP/MS/MS
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Životní prostředí, Potraviny a zemědělství, Materiálová analýza
Evaluation of Photonic Materials with Biomimetic Structural Coloration
Aplikace
| 2017 | Shimadzu
UV–VIS Spektrofotometrie
Instrumentace
UV–VIS Spektrofotometrie
Výrobce
Shimadzu
Zaměření
Materiálová analýza
LABOREXPO: Thetis, a new and unique solution for anisotropic nanoparticles characterization
Prezentace
| 2022 | Pragolab (LABOREXPO)
Instrumentace
Výrobce
Zaměření
Materiálová analýza
High sensitivity analysis of SiO2 nanoparticles using the Agilent 8900 ICP-QQQ in MS/MS mode
Aplikace
| 2016 | Agilent Technologies
ICP/MS, ICP/MS/MS
Instrumentace
ICP/MS, ICP/MS/MS
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Životní prostředí, Potraviny a zemědělství, Materiálová analýza
EDXRF and WDXRF Analysis of Cd
Aplikace
| N/A | Shimadzu
X-ray
Instrumentace
X-ray
Výrobce
Shimadzu
Zaměření
Materiálová analýza
Analysis of Foreign Matter Using CCD
Aplikace
| N/A | Shimadzu
X-ray
Instrumentace
X-ray
Výrobce
Shimadzu
Zaměření
Materiálová analýza
EDXRF Analysis of Lead in Lead-Free Solder Materials
Aplikace
| N/A | Shimadzu
X-ray
Instrumentace
X-ray
Výrobce
Shimadzu
Zaměření
Materiálová analýza
Mohlo by Vás zajímat
Další informace
WebinářeO násKontaktujte násPodmínky užití
LabRulez s.r.o. Všechna práva vyhrazena. Obsah dostupný pod licencí CC BY-SA 4.0 Uveďte původ-Zachovejte licenci.