Rozcestník
Další informace
WebinářeO násKontaktujte násPodmínky užití
LabRulez s.r.o. Všechna práva vyhrazena. Obsah dostupný pod licencí CC BY-SA 4.0 Uveďte původ-Zachovejte licenci.
Aplikace se zaměřením na ICP/MS od Agilent Technologies | LabRulez ICPMS
Analysis of 15 nm Iron Nanoparticles in Organic Solvents by spICP-MS
Aplikace
| 2020 | Agilent Technologies
ICP/MS, ICP/MS/MS
Instrumentace
ICP/MS, ICP/MS/MS
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Polovodiče
WCPS: Application of Compound Independent Calibration (CIC) Software for the Quantitation of As-species in Undiluted Urine by LC-ICP-MS
Postery
| 2011 | Agilent Technologies
HPLC, ICP/MS, Speciační analýza
Instrumentace
HPLC, ICP/MS, Speciační analýza
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Klinická analýza
WCPS: Determination of Ultra Trace Elements in High Purity Reagents by Automatic Standard Addition Methods Using prepFAST S - ICP-MS/MS
Postery
| 2018 | Agilent Technologies
Příprava vzorků, ICP/MS, ICP/MS/MS
Instrumentace
Příprava vzorků, ICP/MS, ICP/MS/MS
Výrobce
Agilent Technologies, Elemental Scientific
Zaměření
Průmysl a chemie, Polovodiče
Ultratrace Analysis of Solar (Photovoltaic) Grade Bulk Silicon by ICP-MS
Aplikace
| 2008 | Agilent Technologies
ICP/MS
Instrumentace
ICP/MS
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Polovodiče
Analysis of 50 nm Silica Nanoparticles in Semiconductor Process Chemicals by spICP-MS/MS
Aplikace
| 2023 | Agilent Technologies
ICP/MS, ICP/MS/MS
Instrumentace
ICP/MS, ICP/MS/MS
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Polovodiče
Ultra trace measurement of potassium and other elements in ultrapure water using the Agilent 8800 ICP-QQQ in cool plasma reaction cell mode
Aplikace
| 2014 | Agilent Technologies
ICP/MS, ICP/MS/MS
Instrumentace
ICP/MS, ICP/MS/MS
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Polovodiče
Determination of Ultratrace Impurities in Semiconductor Photoresist Using ICP-MS/MS
Aplikace
| 2023 | Agilent Technologies
ICP/MS, ICP/MS/MS
Instrumentace
ICP/MS, ICP/MS/MS
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Polovodiče
Using ICP-QQQ for UO2 + product ion measurement to reduce uranium hydride ion interference and enable trace 236U isotopic analysis
Aplikace
| 2016 | Agilent Technologies
ICP/MS, ICP/MS/MS
Instrumentace
ICP/MS, ICP/MS/MS
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Životní prostředí, Průmysl a chemie
Mohlo by Vás zajímat
Další informace
WebinářeO násKontaktujte násPodmínky užití
LabRulez s.r.o. Všechna práva vyhrazena. Obsah dostupný pod licencí CC BY-SA 4.0 Uveďte původ-Zachovejte licenci.