Aplikace se zaměřením na ICP/MS od Agilent Technologies | LabRulez ICPMS
Analysis of Nanoparticles in Organic Reagents by Agilent 8900 ICP-QQQ in spICP-MS Mode
Aplikace
| 2019 | Agilent Technologies
ICP/MS, ICP/MS/MS
Instrumentace
ICP/MS, ICP/MS/MS
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Polovodiče
A New Technique for the Analysis of Corundum Using Laser Ablation ICP-MS
Aplikace
| 2004 | Agilent Technologies
ICP/MS, Laserová ablace
Instrumentace
ICP/MS, Laserová ablace
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Životní prostředí
Characterization of Iron Nanoparticles in Hydrocarbon Matrices by Single Particle (sp)ICP-MS
Aplikace
| 2022 | Agilent Technologies
ICP/MS
Instrumentace
ICP/MS
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Průmysl a chemie, Polovodiče
Analysis of 15 nm Iron Nanoparticles in Organic Solvents by spICP-MS
Aplikace
| 2020 | Agilent Technologies
ICP/MS, ICP/MS/MS
Instrumentace
ICP/MS, ICP/MS/MS
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Polovodiče
Characterization of Surface Metal Contamination on Silicon Wafers Using Surface Metal Extraction Inductively Coupled Plasma Mass Spectrometry (SME- ICP-MS)
Aplikace
| 2001 | Agilent Technologies
ICP/MS
Instrumentace
ICP/MS
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Polovodiče
Characterization of Trace Impurities in Silicon Wafers by High Sensitivity Reaction Cell ICP-MS
Aplikace
| 2003 | Agilent Technologies
ICP/MS
Instrumentace
ICP/MS
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Polovodiče
Direct Measurement of Metallic Impurities in 20% Ammonium Hydroxide by 7700s/7900 ICP-MS
Aplikace
| 2017 | Agilent Technologies
ICP/MS
Instrumentace
ICP/MS
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Polovodiče
Analysis of 50 nm Silica Nanoparticles in Semiconductor Process Chemicals by spICP-MS/MS
Aplikace
| 2023 | Agilent Technologies
ICP/MS, ICP/MS/MS
Instrumentace
ICP/MS, ICP/MS/MS
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Polovodiče
Agilent Atomic Spectroscopy - Safety Information
Manuály
| 2022 | Agilent Technologies
ICP/MS, ICP/OES, ICP/MS/MS, MP/ICP-AES
Instrumentace
ICP/MS, ICP/OES, ICP/MS/MS, MP/ICP-AES
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Determination of Trace Metal Impurities in Semiconductor Grade Phosphoric Acid by High Sensitivity Reaction Cell ICP-MS